[實用新型]一種爐料結(jié)構(gòu)熔滴實驗滴落溫度檢測裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520043196.2 | 申請日: | 2015-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN204661748U | 公開(公告)日: | 2015-09-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 武建龍;孫健;陳輝;陳秀昆;馬澤軍;劉文運;張勇;蔡皓宇 | 申請(專利權(quán))人: | 首鋼總公司 |
| 主分類號: | C21B7/24 | 分類號: | C21B7/24 |
| 代理公司: | 北京華沛德權(quán)律師事務所 11302 | 代理人: | 劉杰 |
| 地址: | 100041 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 爐料 結(jié)構(gòu) 實驗 滴落 溫度 檢測 裝置 | ||
1.一種爐料結(jié)構(gòu)熔滴實驗滴落溫度檢測裝置,其特征在于,所述檢測裝置包括:
熔滴爐,用于將實驗爐料加熱熔化;
溫度測試部件,設(shè)置在所述熔滴爐上,用于測定所述實驗爐料的溫度;
控制器,與所述溫度測試部件通過邏輯電路連通;所述控制器接收并處理所述溫度測試部件發(fā)送的溫度信息;所述控制器按照設(shè)定的時間周期記錄所述溫度測試部件發(fā)送的溫度信息;
坩堝,設(shè)置在所述熔滴爐滴落出口的下方,用于盛裝熔化后的所述實驗爐料;
耐高溫天平,設(shè)置在所述坩堝的下方,用于支撐所述坩堝,并測量所述坩堝的重量;所述耐高溫天平通過邏輯電路與所述控制器連通;所述耐高溫天平將測量的重量信息發(fā)送到所述控制器;
其中,所述控制器通過所述坩堝重量的變化確定所述滴落溫度。
2.如權(quán)利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,所述檢測裝置還包括:
防護箱體,設(shè)有容置空間,所述防護箱體的頂部與所述熔滴爐的滴落出口連通;
所述耐高溫天平設(shè)置在所述防護箱體的所述容置空間內(nèi);
所述坩堝設(shè)置在所述防護箱體的所述容置空間內(nèi),位于所述熔滴爐滴落出口的正下方;
其中,所述熔滴爐內(nèi)熔化的所述實驗爐料滴落后,穿過所述熔滴爐滴落出口落到所述坩堝內(nèi),使所述坩堝的重量逐漸增加;所述控制器按照設(shè)定的時間周期記錄所述坩堝的重量信息。
3.如權(quán)利要求2所述的檢測裝置,其特征在于,所述檢測裝置還包括:
坩堝盛放盤,設(shè)置在所述防護箱體的所述容置空間內(nèi);所述坩堝盛放盤設(shè)置在所述耐高溫天平的上方;所述坩堝盛放盤與所述耐高溫天平活動?連接;所述坩堝盛放盤能相對所述耐高溫天平旋轉(zhuǎn);所述坩堝放置在所述坩堝盛放盤的上方,能跟隨所述坩堝盛放盤旋轉(zhuǎn)。
4.如權(quán)利要求3所述的檢測裝置,其特征在于:
多個所述坩堝呈圓形分布在所述坩堝盛放盤上,跟隨所述坩堝盛放盤轉(zhuǎn)動;所述多個坩堝到所述坩堝盛放盤中心的距離等于所述熔滴爐滴落出口中心到所述坩堝盛放盤中心的距離。
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