[實用新型]一種用于密閉反應室的自凈化系統有效
| 申請號: | 201520024736.2 | 申請日: | 2015-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN204485825U | 公開(公告)日: | 2015-07-22 |
| 發明(設計)人: | 呂立平;馮淦;趙建輝 | 申請(專利權)人: | 瀚天天成電子科技(廈門)有限公司 |
| 主分類號: | B01J19/00 | 分類號: | B01J19/00;B01D46/00 |
| 代理公司: | 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 曾少麗 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市湖*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 密閉 反應 凈化系統 | ||
技術領域
本實用新型涉及密閉反應設備技術領域,特別涉及一種用于密閉反應室的自凈化系統。
背景技術
由于碳化硅特殊的化學和物理性質,其外延工藝要求反應室必須處在一種密閉、無氧、無氮的特殊環境中,在碳化硅外延生長過程中,會不斷產生出現細小的顆粒,這些細小顆粒沉積在反應室腔體底部,如果這些細小的顆粒的不能及時有效的清除掉,就會在密閉的腔體內不斷積聚,細小顆粒的大量極具將影響下一周期的碳化硅晶片外延生長,導致碳化硅晶片缺陷的增加。
雖然目前的碳化硅外延生長反應室具有有一定的自凈化能力,但是而且其凈化所花費的時間過于漫長,對細小顆粒的清理效率低,遠遠不能滿足碳化硅外延工藝的需求,直接影響到了生產效率。
因此本實用新型人特別研制出一種能夠速有效地清理密閉反應室內細小顆粒的自凈化系統,本案由此產生。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種用于密閉反應室的自凈化系統,其應用于碳化硅外延生長的密閉反應室,能夠快速有效的清理反應室腔體內的細小顆粒,提高生產效率。
為了實現上述目的,本實用新型的技術方案如下:
一種用于密閉反應室的自凈化系統,密閉反應室包括一個主箱體,主箱體內開設上腔體和下腔體,上腔體與下腔體通過一隔板隔開,隔板上開設一通風孔;主箱體外側開設送風口和抽風口;自凈化系統包括控制箱、過濾箱、風機、送風法蘭、抽風法蘭和電控風閥;風機安裝在隔板下沿并與通風孔對接,主箱體的上腔體頂部與下腔體底部均安裝過濾箱;送風法蘭安裝在主箱體的送風口,抽風法蘭內置一電控風閥,抽風法蘭安裝在主箱體的抽風口,送風法蘭與上腔體頂部的過濾箱對應,抽風法蘭與下腔體底部的過濾箱對應,抽風法蘭與送風法蘭通過一管道連接;控制箱內置一變頻控制器,控制箱外部設有與變頻控制器的電連接的電源指示燈、風機工作指示燈和閥門工作指示燈,控制箱安裝在主箱體外部;風機和電控風閥均與變頻控制器電連接。
所述控制箱外部還設有與控制器電連接檔位工作開關。
所述上腔體頂部安裝高效過濾箱,下腔體底部安裝中效過濾箱。
所述主箱體一側還開設上檢修門和下檢修門,上檢修門與上腔體對應,下檢修門與下腔體對應。
采用上述方案后,本實用新型通過在密閉反應室內設置風機、在上腔體外部設置送風口及在下腔體外部設置抽風口,啟動風機打開電控風閥后,密閉反應室內的氣體由上腔體流動到下腔體,再由下腔體進入底部的過濾箱,同時腔內氣體流動帶動積聚在上腔體底部和下腔體底部的細小顆粒進入過濾箱,過濾后的氣體在從送風法蘭進入反應室,進入上腔體的氣體將經過頂部過濾箱,從而進一步過濾掉細小顆粒,實現密閉反應室的清理,上述過程風機和電控風閥開/關均通過控制箱進行自動化控制;本實用新型的自凈化系統可對密閉反應室內的細小顆粒進行快速有效清理,操作簡單,清理程序高效,成本低廉。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本實用新型的立體結構示意圖;
圖2是本實用新型正視圖;
圖3是本實用新型側視圖;
圖4是本實用新型側視圖。
標號說明
主箱體1,上腔體11,下腔體12,隔板13,送風口14,抽風口15,控制箱2,電源指示燈21,風機工作指示燈22,閥門工作指示燈23,檔位工作開關24,送風法蘭3,抽風法蘭4,電控風閥5,上檢修門61,下檢修門62,高效過濾箱71,中效過濾箱72,風機8。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
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