[實用新型]薄膜表面處理設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520020994.3 | 申請日： | 2015-01-13 |
| 公開（公告）號： | CN204451237U | 公開（公告）日： | 2015-07-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 夏國雄;洪玟成;洪宗泰;余重進(jìn) | 申請（專利權(quán)）人： | 臺虹科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B29C71/00 | 分類號： | B29C71/00;B29C71/02;B29C71/04 |
| 代理公司： | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11228 | 代理人： | 張秋越 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 薄膜 表面 處理 設(shè)備 | ||
1.一種薄膜表面處理設(shè)備，其特征在于，包含：
一用以對一薄膜的一第一表面加壓的第一加壓滾輪；以及
一用以對該薄膜的一第二表面加壓的第二加壓滾輪，對應(yīng)于該第一加壓滾輪設(shè)置；以及
一用以調(diào)整該第一加壓滾輪及該第二加壓滾輪之間的間隙的間隙調(diào)整裝置，設(shè)置于該第一加壓滾輪及該第二加壓滾輪之間。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜表面處理設(shè)備，其特征在于，另包含：
一用以對經(jīng)該第一加壓滾輪及該第二加壓滾輪加壓后的該薄膜進(jìn)行冷卻的冷卻滾輪。
3.如權(quán)利要求1所述的薄膜表面處理設(shè)備，其特征在于，另包含：
一用以對經(jīng)該第一加壓滾輪及該第二加壓滾輪加壓前的該薄膜進(jìn)行預(yù)熱的預(yù)熱裝置。
4.如權(quán)利要求1所述的薄膜表面處理設(shè)備，其特征在于，另包含：
一用以對該第一加壓滾輪的表面加熱的加熱罩，設(shè)置于該第一加壓滾輪的外圍。
5.如權(quán)利要求1所述的薄膜表面處理設(shè)備，其特征在于，該第一加壓滾輪是一鋼輪，該第二加壓滾輪是一膠輪。
6.如權(quán)利要求1所述的薄膜表面處理設(shè)備，其特征在于，該第一加壓滾輪的外徑大于該第二加壓滾輪的外徑。
7.如權(quán)利要求1所述的薄膜表面處理設(shè)備，其特征在于，另包含：
一用以對該薄膜因加熱產(chǎn)生的氣體進(jìn)行抽氣的抽氣裝置。
8.如權(quán)利要求1所述的薄膜表面處理設(shè)備，其特征在于，該薄膜是一高分子薄膜。
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