[實用新型]磁控濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 201520018417.0
• 申請日: 2015-01-12
• 公開（公告）號: CN204455279U
• 公開（公告）日: 2015-07-08
• 發明（設計）人: 劉玉華;方鳳軍
• 申請（專利權）人: 宜昌南玻顯示器件有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 鄧云鵬

1.一種磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，包括依次相連的鍍膜腔室、第一過渡室、第二過渡室、緩沖室和出口鎖定室，所述第一過渡室、第二過渡室、緩沖室和出口鎖定室中均設置有加熱器；

所述鍍膜腔室的設定溫度為380℃～600℃，所述第一過渡室的設定溫度為300℃～500℃，所述第二過渡室的設定溫度為250℃～400℃，所述緩沖室的設定溫度為100℃～300℃，所述出口鎖定室的設定溫度為20℃～200℃。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述鍍膜腔室的設定溫度為480℃，所述第一過渡室的設定溫度為400℃，所述第二過渡室的設定溫度為350℃，所述緩沖室的設定溫度為200℃，所述出口鎖定室的設定溫度為20℃。

3.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述第一過渡室的長度為0.9m～3.6m，所述第二過渡室的長度為0.9m～3.6m，所述緩沖室的長度為0.9m～3.6m，所述出口鎖定室的長度為0.9m～3.6m。

4.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述鍍膜腔室與所述第一過渡室通過第一閥門連接，所述第一過渡室和所述第二過渡室通過第二閥門連接，所述第二過渡室和所述緩沖室通過第三閥門連接，所述緩沖室和所述出口鎖定室通過第四閥門連接。

5.根據權利要求1所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，還包括與所述出口鎖定室連接的加熱室及與所述加熱室相連的第五冷卻室。

6.根據權利要求5所述的磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述加熱室的設定溫度為200℃～400℃，所述第五冷卻室的設定溫度為50℃～300℃，所述加熱室和所述第五冷卻室內的壓強均為大氣壓。