[實用新型]柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機

有效

• 申請號: 201520007002.3
• 申請日: 2015-01-07
• 公開（公告）號: CN204385288U
• 公開（公告）日: 2015-06-10
• 發明（設計）人: 談琦
• 申請（專利權）人: 四川亞力超膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35
• 代理公司: 成都宏順專利代理事務所(普通合伙) 51227
• 代理人: 周永宏

1.柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，包括真空系統、卷繞系統(2)和濺射系統(3)，真空系統包括真空室(1)和真空泵；卷繞系統(2)和濺射系統(3)均設置在真空室(1)內；

所述的真空系統用于將真空室(1)內抽真空至磁控濺射需要的真空環境；

所述的卷繞系統(2)用于實現基材的放卷和收卷，卷繞系統(2)包括放卷機構(201)、鍍膜鼓(207)和收卷機構(215)；由放卷機構(201)釋放的基材經鍍膜鼓(207)，再由收卷機構(215)進行收卷，位于鍍膜鼓(207)的基材伸入方向上設有壓輥(206)，壓輥(206)與鍍膜鼓(207)之間設有供基材通行的縫隙；

所述的濺射系統(3)用于對經過鍍膜鼓(207)的基材進行鍍膜得到鍍膜產品。

2.根據權利要求1所述的柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，所述的真空室(1)內部通過隔板A(101)隔離為用于安裝卷繞系統(2)的卷繞室(102)和用于安裝濺射系統(3)的鍍膜室(103)，鍍膜室(103)內部通過隔板B分割成多個鍍膜區間；所述的卷繞室(102)通過閥門(7)連接真空泵A(4)，每個鍍膜區間分別通過閥門(7)連接真空泵B(5)。

3.根據權利要求2所述的柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，所述的真空泵B(5)為分子泵。

4.根據權利要求1所述的柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，所述的放卷機構(201)和收卷機構(215)分別位于卷繞室(102)內相對的兩側，其中，放卷機構(201)和鍍膜鼓(207)之間形成放卷張力區間，鍍膜鼓(207)與收卷機構(215)之間形成收卷張力區間；在放卷張力區間設有張力測量輥A(203)、展平輥A(205)和至少一個過輥，在收卷張力區間的設有展平輥B(209)、張力測量輥B(210)和至少一個過輥，在鍍膜鼓(207)上設有清潔輥(208)，所述的清潔輥(208)壓在鍍膜鼓(207)上方沒有基材包裹的位置。

5.根據權利要求4所述的柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，所述的放卷張力區間設有過輥A(202)和過輥B(204)，所述的過輥A(202)位于放卷機構(201)釋放基材的方向上，過輥B(204)位于張力測量輥A(203)與展平輥A(205)之間；

所述的放卷張力區間從鍍膜鼓(207)到收卷機構(215)的方向上依次設有過輥C(211)、過輥D(212)和過輥E(214)，所述的過輥E(214)位于收卷機構(215)的基材回收方向上，過輥D(212)和過輥E(214)之間設有跟蹤機構(213)。

6.根據權利要求2所述的柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，所述的濺射系統(3)包括多個濺射源(301)，每個濺射源(301)分別對應一個鍍膜區間，并從與卷繞系統相對的方向伸入到鍍膜室(103)對經過鍍膜鼓(207)的基材進行鍍膜，所述的濺射源(301)相對于鍍膜鼓(207)的軸心呈圓周分布。

7.根據權利要求6所述的柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，所述的濺射源(301)采用中頻孿生柱狀靶結構。

8.根據權利要求2所述的柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，所述的卷繞室(102)和每個鍍膜區間內均配有深冷盤管(6)。

9.根據權利要求1所述的柔性基材磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于，所述的卷繞系統(2)安裝在驅動車上，驅動車上還設有電機和控制器，所述的放卷機構(201)、鍍膜鼓(207)和收卷機構(215)分別與電機相連，電機、張力測量輥A(203)和張力測量輥B(210)分別與控制器連接。