[發明專利]單透鏡或多透鏡光學系統的光學表面的曲率中心的位置的測量有效
| 申請號: | 201511036112.3 | 申請日: | 2015-12-24 | 
| 公開(公告)號: | CN105738078B | 公開(公告)日: | 2019-10-08 | 
| 發明(設計)人: | 尾矢尚志;A·魯普雷希特;E·杜米迪斯古 | 申請(專利權)人: | 全歐光學有限公司 | 
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 | 
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 慈戩;吳鵬 | 
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透鏡 光學系統 光學 表面 曲率 中心 位置 測量 | ||
1.用于測量單透鏡或多透鏡光學系統(P)的光學表面(S1,S2,S3)的曲率中心(K1,K2,K3)的位置的方法,包括如下步驟:
a)提供成像透鏡系統(44,62),所述成像透鏡系統將至少一個物體平面(39;39a,39b)成像到第一圖像平面(47a)并且同時成像到與所述第一圖像平面不同但是位于相同光束路徑中的第二圖像平面(47b);
b)光學系統設置成,考慮位于光束路徑上游的光學系統的任意光學表面(S1,S2)的折射效應,第一曲率中心(K1)的假定位置位于成像透鏡系統的第一圖像平面(47a)中并且第二曲率中心(K2)的假定位置位于成像透鏡系統的第二圖像平面(47b)中;
c)將設置在物體平面(39;39a,39b)中的物體(40;40a,40b)通過從一側入射至光學系統(P)的測量光(41)同時或順序成像在第一圖像平面(47a)處和第二圖像平面(47b)處;
d)通過空間解析光傳感器(50)檢測測量光(41)在光學系統(P)的光學表面(S1,S2,S3)處的反射;
e)基于在步驟d)中檢測的反射計算第一曲率中心(K1)和第二曲率中心(K2)的實際位置。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,在測量曲率中心(K1,K2,K3)之前,實施校準測量,從該校準測量推導在光傳感器(50)上與曲率中心相關的位置。
3.如權利要求1或2所述的方法,其特征在于,第一圖像平面(47a)和第二圖像平面(47b)由具有不同焦距的輔助透鏡系統產生,輔助透鏡系統的光路徑(68a,68b)由沿著光傳播方向設置在輔助透鏡系統之前的第一光束分光器(66a,66b)分開并且由沿著光傳播方向設置在輔助透鏡系統之后的光束合并器(70a,70b)合并。
4.如權利要求1或2所述的方法,其特征在于,第一圖像平面(47a)和第二圖像平面(47b)產生在與測量光(41)相關的測量光孔的多個方位角段中,所述多個方位角段在準直光束路徑的區域中不重疊并且是不同的。
5.如權利要求1或2所述的方法,其特征在于,第一圖像平面(47a)和第二圖像平面(47b)產生在與測量光(41)相關的測量光孔的多個徑向段中,所述多個徑向段在準直光束路徑的區域中不重疊并且是不同的。
6.如權利要求1或2所述的方法,其特征在于,產生的第一圖像平面(41a)和第二圖像平面(41b)用于不同波長的測量光(41)。
7.用于測量單透鏡或多透鏡光學系統(P)的光學表面(S1,S2,S3)的曲率中心(K1,K2,K3)的位置的設備,包括:
a)成像透鏡系統(44,62),所述成像透鏡系統配置為將至少一個物體平面(39;39a,39b)成像到第一圖像平面(47a)并且同時成像到與所述第一圖像平面不同但是位于相同光束路徑中的第二圖像平面(47b);
b)空間解析光傳感器(50),其配置為檢測測量光(41)在光學系統(P)的光學表面處的反射;
c)估算設備(63),所述估算設備配置成:在光學系統布置成考慮位于光束路徑上游的光學系統(P)的任意光學表面(S1,S2)的折射效應,第一曲率中心(K1)的假定位置位于成像透鏡系統(44,62)的第一圖像平面(47a)中并且第二曲率中心(K2)的假定位置位于成像透鏡系統(44,62)的第二圖像平面(47b)中之后,并且在設置在物體平面(39;39a,39b)中的物體(40;40a,40b)已經通過從一側入射至光學系統(P)的測量光(41)同時或順序成像在第一圖像平面(47a)處和第二圖像平面(47b)處之后,基于由光傳感器(50)檢測的反射計算第一曲率中心(K1)和第二曲率中心(K2)的實際位置。
8.如權利要求7所述的設備,其特征在于,成像透鏡系統(44,62)不包括可沿著軸向方向運動的元件。
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