[發(fā)明專利]一種殺菌防炫增透耐磨鏡片及其制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201511029137.0
• 申請日: 2015-12-31
• 公開（公告）號: CN105467620A
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳曉彤;方俊勇
• 申請（專利權(quán)）人: 奧特路（漳州）光學(xué)科技有限公司
• 主分類號: G02C7/10
• 分類號: G02C7/10;G02B5/20;G02B1/14;G02B1/115
• 代理公司: 福州君誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35211
• 代理人: 戴雨君

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種鏡片技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種殺菌防炫增透耐磨鏡片及其制備方法。

背景技術(shù)

隨著人們文化、生活水平的不斷提高，視力保健工作的開展，眼鏡作為矯正視力或保護(hù)眼睛而制作的簡單光學(xué)器件，在人們生活領(lǐng)域中發(fā)揮了重要的作用。眼鏡通常是由鏡片和鏡架組成，從鏡片的功能上講，它具有調(diào)節(jié)進(jìn)入眼睛之光量，增加視力，保護(hù)眼睛安全和臨床治療眼病等作用。

目前鏡片的種類繁多，如目前常見的TAC偏光鏡片，其可100％阻隔有害光線，因此頗受消費(fèi)者的青睞，特別適于戶外運(yùn)動使用，然而，在運(yùn)動過程中鏡片難免發(fā)生刮擦，因此鏡片的耐磨程度也是消費(fèi)者選購的一個(gè)考慮因素，目前市售的TAC偏光鏡片，其表面的硬度只能達(dá)到H，其耐磨性為1.5級，很容易被硬物刮花或摔壞，影響使用者觀察事物的效果，既給使用者帶來不便，而且還需經(jīng)常更換，增加使用成本，有待改進(jìn)。

夜間行車時(shí)，對面行駛車輛若違規(guī)采用大功率的車燈，司機(jī)就會產(chǎn)生炫目的感覺，而且在較長一段時(shí)間內(nèi)視覺難以恢復(fù)正常狀態(tài)，極易造成交通事故。人在此情況下，產(chǎn)生炫目的機(jī)理是：當(dāng)人從強(qiáng)光環(huán)境下進(jìn)入暗處，或從暗處到明處，眼睛都需要經(jīng)歷一段適應(yīng)時(shí)間才能看清周圍物體，相應(yīng)地稱為暗適應(yīng)和明適應(yīng)。有關(guān)科學(xué)資料表明，這種適應(yīng)需要的時(shí)間大約為5-10min，而完全適應(yīng)新的亮度環(huán)境需要20^-30min。夜間行車過程中，當(dāng)對面車輛迎面駛來時(shí)，司機(jī)就會有一個(gè)明適應(yīng)的過程，而車輛駛過時(shí)，又有一個(gè)暗適應(yīng)的過程，極易造成人眼疲勞。為解決此安全隱患，人們通常采用電子學(xué)與光學(xué)相結(jié)合的方法，例如ADS晶望鏡，此產(chǎn)品是汽車遮陽板的升級換代產(chǎn)品，可以有效防止炫目，并且有隨外界光強(qiáng)自動調(diào)整透射率的優(yōu)點(diǎn)，但它是與車型相匹配的，其他車型若想采用此產(chǎn)品必須另行安裝，大大降低了其通用性，而且此類產(chǎn)品的價(jià)格偏高。

此外，眼鏡在長期佩戴后，鏡片不僅容易滋生細(xì)菌，而且還容易吸附周圍環(huán)境中的灰塵等細(xì)小顆粒，從而不利于佩戴者的身體健康，污染鏡片，影響其透光性。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種耐磨性好，透光性好，增透性強(qiáng)，具有殺菌抗菌和防炫目功能，適于夜間使用的殺菌防炫增透耐磨鏡片及其制備方法。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種殺菌防炫增透耐磨鏡片，包括基片，所述基片的內(nèi)、外兩個(gè)表面從里到外對稱依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層和第六膜層；所述第一膜層和第三膜層均為五氧化三鈦層，厚度均為10-100nm；所述第二膜層和第四膜層均為二氧化硅層，厚度均為50-100nm；所述第五膜層為納米銀層，厚度為5-20nm；所述第六膜層為高硬度層，厚度為10-50nm。

所述納米銀層的膜材為銀的氧化物，并由電子槍蒸鍍成型；所述銀的氧化物為Ag₂O、AgO或Ag₂O₃。

所述高硬度層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，并由電子槍蒸鍍成型。

所述基片由樹脂或玻璃成型。

一種殺菌防炫增透耐磨鏡片的制備方法，所述基片由樹脂成型時(shí)，所述制備方法具體包括以下步驟：

1）對基片進(jìn)行清洗、干燥；

2）分別對基片的內(nèi)、外兩個(gè)表面進(jìn)行鍍膜；

A、鍍第一膜層：

將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70℃，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基片的外表面，同時(shí)控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5?/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm；其中，所述第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；

B、鍍第二膜層：

保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70℃，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時(shí)控制第二膜層蒸鍍的速率為7?/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm；其中，所述第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；

C、鍍第三膜層：