[發明專利]一種給氣浮動機構在審
| 申請號: | 201511015443.9 | 申請日: | 2015-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN105405797A | 公開(公告)日: | 2016-03-16 |
| 發明(設計)人: | 賀懷珍 | 申請(專利權)人: | 天津金海通自動化設備制造有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 天津濱海科緯知識產權代理有限公司 12211 | 代理人: | 楊慧玲 |
| 地址: | 300384 天津市濱海新區高新區*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 浮動 機構 | ||
1.一種給氣浮動機構,其特征在于:包括基座(1)和該基座(1)頂部設置的基座上蓋(2),所述基座(1)設有開口向上的安裝腔,所述基座上蓋(2)豎直方向上設有通孔,該通孔和安裝腔正對設置,所述基座(1)的底部設有和安裝腔連通的進氣孔,所述安裝腔內設有頂升機構,所述頂升機構包括由上至下設置的浮動桿(3)、膜片(12)和固定膜片環(4),所述浮動桿(3)、膜片(12)和固定膜片環(4)連接為一體,所述膜片(12)的開口向下設置,所述膜片(12)、固定膜片環(4)、浮動桿(3)和通孔同心設置,所述膜片(12)的外邊緣和安裝腔底面密封設置,所述膜片(12)和安裝腔底面間形成進氣腔,所述浮動桿(3)包括底板(31)和立柱(32),所述立柱(32)豎直設置在底板(31)的上表面,且立柱(32)正對通孔設置,立柱(32)在通孔內可上下滑動,所述底板(31)和基座上蓋(2)間設有彈簧(11)。
2.根據權利要求1所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述固定膜片環(4)的中心處和基座(1)間設有導向銷(6),所述導向銷(6)豎直固定在基座(1)上,所述固定膜片環(4)和導向銷(6)滑動連接。
3.根據權利要求2所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述導向銷(6)和基座(1)螺絲連接。
4.根據權利要求1或2所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述基座上蓋(2)的底面對稱的設有兩個浮動調整銷(7),所述兩個浮動調整銷(7)分別為圓柱銷,該兩個浮動調整銷(7)的底端分別設有導向部,所述底板(31)和該兩個浮動調整銷(7)一一對應的設有導向孔。
5.根據權利要求4所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述基座上蓋(2)的底面上還對稱的設有兩個第一定位銷(5),所述兩個第一定位銷(5)分別為臺階銷,該第一定位銷(5)直徑較小的一端和基座上蓋(2)連接,所述第一定位銷(5)直徑較大一端的長度小于浮動調整銷(7)位于基座上蓋(2)外的長度,所述底板(31)和該兩個第一定位銷(5)一一對應的設有定位孔。
6.根據權利要求5所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述兩個浮動調整銷(7)和兩個第一定位銷(5)呈“十”字型設置。
7.根據權利要求1所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述基座(1)和基座上蓋(2)間設有兩個第二定位銷(9),該兩個第二定位銷(9)固定在基座(1)上,所述基座上蓋(2)與該兩個第二定位銷(9)一一對應的設有連接孔。
8.根據權利要求1所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述彈簧(11)套裝在立柱(32)上。
9.根據權利要求1所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述膜片(12)為氟硅膠膜片。
10.根據權利要求1所述的一種給氣浮動機構,其特征在于:所述基座(1)和基座上蓋(2)間螺栓連接,所述浮動桿(3)、膜片(12)和固定膜片環(4)間為螺栓連接。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





