[發(fā)明專利]發(fā)聲裝置及其實現(xiàn)方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201511002801.2
• 申請日: 2015-12-27
• 公開（公告）號: CN105551475A
• 公開（公告）日: 2016-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬宇塵
• 申請（專利權(quán)）人: 上海孩子國科教設(shè)備有限公司
• 主分類號: G10K1/00
• 分類號: G10K1/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于電子技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

產(chǎn)生音樂的方式，是多種多樣的。包括人類在內(nèi)的生物，很多都 可以通過口腔進行發(fā)聲。而蟬可以通過腹部的鳴叫器進行發(fā)聲。另外， 人們還發(fā)明了各種各樣的樂器，比如管弦樂、打擊樂，等等。

各種各樣的聲音，使世界豐富多彩。但仍舊有一些其他的聲音產(chǎn) 生的類型，可以隨著技術(shù)的發(fā)展逐步產(chǎn)生。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明的目的，是提供一種發(fā)聲裝置及其實現(xiàn)方法，利用本發(fā)明， 可以將滴落發(fā)生出的聲音進行控制，來產(chǎn)生人們所需要的聲音類型， 利用滴落創(chuàng)出特殊的聲音效果。

本發(fā)明所述的發(fā)聲裝置，該裝置包括：

物體滴落結(jié)構(gòu)，它是用以將物體滴落的功能結(jié)構(gòu)；

滴落接觸面，它與前述的物體滴落結(jié)構(gòu)配套設(shè)施，將通過物體滴 落結(jié)構(gòu)所滴落物體在該記錄面上產(chǎn)生碰撞效果；

位置控制模塊，它是通過電磁鐵所實現(xiàn)的能夠控制物體滴落結(jié)構(gòu) 和和滴落接觸面兩者其一的位置和結(jié)構(gòu)的控制裝置；

聲音采集模塊，它對應(yīng)著滴落接觸面設(shè)置，是用于采集物體在滴 落接觸面上碰撞聲音的結(jié)構(gòu)功能。

聲音處理裝置、輸出裝置，用于將聲音采集模塊所采集的聲音進 行進一步的諸如降噪等處理，然后通過輸出裝置輸出。

進一步，所述的發(fā)聲裝置，還具有如下技術(shù)特征：

對應(yīng)所述的發(fā)聲裝置，在所述的滴落接觸面上或下側(cè)，設(shè)置有用 以實現(xiàn)共振效果的空腔；

對應(yīng)所述的發(fā)聲裝置，聲音采集模塊設(shè)置于所述的共振腔中；

對應(yīng)所述的發(fā)聲裝置，其滴落控制面，通過限定軸限定移動的位 置。

所述發(fā)聲裝置的實現(xiàn)方法，主要步驟如下：

步驟1，利用物體滴落結(jié)構(gòu)，將預(yù)置的物體滴落；

步驟2，利用通過電磁鐵實現(xiàn)的位置控制模塊，來控制滴落接觸 面的高度或接觸面，或物體滴落結(jié)構(gòu)的位置；

步驟3，將前述聲音采集處理后輸出。

本發(fā)明的優(yōu)點在于：通過本裝置可以相對自由的控制滴落聲音的 變化，使得使用者能夠?qū)ふ业椒献陨硐埠玫穆曇簟?

附圖說明

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明進行更詳細的說明。

圖1是所述發(fā)聲裝置結(jié)構(gòu)示意圖

圖2是所述發(fā)聲裝置空腔結(jié)構(gòu)示意圖

圖3是所述發(fā)聲裝置滴落結(jié)構(gòu)控制方式示意圖

圖4是所述發(fā)聲裝置滴落接觸面的另一種控制方式示意圖

圖5是所述發(fā)聲裝置實現(xiàn)方法的流程圖

具體實施方式

下面參照附圖，結(jié)合具體實施例對本發(fā)明做進一步的說明。

參圖1所示，本發(fā)明所描述的發(fā)聲裝置包括物體滴落結(jié)構(gòu)100， 滴落接觸面200，位置控制模塊300，聲音采集模塊400，聲音輸出 模塊500。其中滴落接觸面200的下側(cè)由磁性材料210組成；位置控 制模塊又包括電磁鐵310、控制器320、限定軸330三部分。

具體的實現(xiàn)方法如下：

一方面，滴落物110由滴落結(jié)構(gòu)100中落下，當(dāng)其接觸到滴落接 觸面200時，會發(fā)出一定的聲音。聲音采集模塊400即會記錄下發(fā)出 的聲音，并由聲音輸出模塊500進行降噪等優(yōu)化處理后輸出。

另一方面，由于滴落物110滴落到滴落接觸面200上所發(fā)出的聲 音與其初始滴落處同接觸面之間的距離有關(guān)，所以當(dāng)需要改變滴落物 110滴落時所發(fā)的聲音時，就需要通過位置控制模塊300來進行調(diào)節(jié)。

具體的，由于滴落接觸面下方由磁性材料210組成，且相對應(yīng)的 位置控制模塊組件為電磁鐵310，因此只需通過控制器320改變電磁 鐵磁場強度的大小，即可使滴落接觸面200在磁場力的作用下沿著限 定軸330上下移動，從而達到改變距離進而改變滴落聲音的目的。

圖2所示的是發(fā)聲裝置的一種空腔結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示在滴落 接觸面200的下側(cè)設(shè)置空腔220，磁性材料210位于和電磁鐵310相 對應(yīng)的空腔220的下方。聲音采集模塊400設(shè)置于空腔220的內(nèi)側(cè)。

關(guān)于滴落物110滴落聲音的控制仍舊采取控制滴落接觸面200的 高度的方式進行。通過控制器320改變電磁鐵磁場強度的大小，即可 使滴落接觸面200在磁場力的作用下上下移動改變位置，從而達到改 變距離進而改變滴落聲音的目的。