[發明專利]冠層內光合有效輻射自動跟蹤測量裝置

有效

• 申請號: 201511001084.1
• 申請日: 2015-12-28
• 公開（公告）號: CN105387934B
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發明（設計）人: 張寶忠;許迪;魏征;彭致功;蔡甲冰;雷波;王蕾;杜麗娟;陳鶴;周青云;劉鈺;屈艷萍
• 申請（專利權）人: 中國水利水電科學研究院
• 主分類號: G01J1/42
• 分類號: G01J1/42;G01J1/02
• 代理公司: 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385
• 代理人: 董芙蓉

1.冠層內光合有效輻射自動跟蹤測量裝置，其特征在于，包括支架(1)、可調節固定轉接頭(3)、自動跟蹤裝置(2)、冠層外光合有效輻射傳感器(4)和四個冠層內線性光合有效輻射傳感器(5)，所述的支架(1)由自動跟蹤裝置(2)控制旋轉；所述的冠層外光合有效輻射傳感器(4)通過可調節固定轉接頭(3)安裝在支架(1)頂端，四個冠層內線性光合有效輻射傳感器(5)通過可調節固定轉接頭(3)安裝支架(1)上，并且位于冠層外光合有效輻射傳感器(4)的下方；所述的自動跟蹤裝置(2)、冠層外光合有效輻射傳感器(4)、冠層內線性光合有效輻射傳感器(5)分別與測量控制器(7)連接。

2.根據權利要求1所述的冠層內光合有效輻射自動跟蹤測量裝置，其特征在于，所述的冠層內線性光合有效輻射傳感器(5)上均勻分布有10個探頭(6)。