[發明專利]有機發光顯示面板的制作方法

有效

• 申請號: 201511000340.5
• 申請日: 2015-12-28
• 公開（公告）號: CN105609655B
• 公開（公告）日: 2018-06-12
• 發明（設計）人: 蔡雨
• 申請（專利權）人: 天馬微電子股份有限公司;上海天馬微電子有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種有機發光顯示面板的制作方法，其特征在于，包括：

形成有機發光顯示母板，所述形成有機發光顯示母板包括：提供一基板，所述基板具有第一表面和相對的第二表面；

在所述基板的第一表面形成多個有機發光單元；

形成薄膜封裝層，所述有機發光單元位于所述薄膜封裝層和所述基板之間，所述薄膜封裝層為無機層和有機層的交疊結構；

形成保護層，所述保護層位于所述封裝層遠離所述有機發光單元的表面，所述保護層包括第一有機膜層和黏著層，所述黏著層位于所述封裝層與所述第一有機膜層之間；

對所述有機發光顯示母板進行切割，形成多個有機發光顯示面板，每個所述有機發光顯示面板的所述基板還包括連接第一表面和第二表面的多個側表面；

在所述有機發光顯示面板上形成第一阻水層，所述第一阻水層位于所述保護層遠離所述封裝層的表面，所述第一阻水層包括至少一層第一無機膜層。

2.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述形成第一阻水層包括形成至少一個第一側邊，所述第一側邊朝向所述基板一個所述側表面延伸。

3.根據權利要求2所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述至少一個第一側邊覆蓋所述基板的一個側表面。

4.根據權利要求2所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述對所述有機發光顯示母板進行切割形成多個有機發光顯示面板之后還包括：在所述基板的第二表面形成第二阻水層，包括形成至少一層第二無機膜層。

5.根據權利要求4所述的顯示面板的制作方法，其特征在于

所述在所述基板的第二表面形成第二阻水層包括：形成至少一個第二側邊，所述第二側邊朝向所述保護層延伸。

6.根據權利要求5所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述第一側邊和所述第二側邊至少有一部分交疊。

7.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述形成所述第一阻水層還包括形成至少一層第二有機膜層，

所述第二有機膜層和所述第一無機膜層交疊形成所述第一阻水層，

所述第一阻水層遠離所述保護層的外側為第一無機膜層。

8.根據權利要求4所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述形成所述第二阻水層還包括形成至少一層第三有機膜層，

所述第三有機膜層和所述第二無機膜層交疊形成所述第二阻水層，

所述第二阻水層遠離所述基板第二表面的外側為第二無機膜層。

9.根據權利要求7所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述第一有機膜層包括聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯以及環烯烴聚合物中的任意一種或幾種；

所述第二有機膜層包括有機硅化合物或者芳香族；

所述第一無機膜層包括二氧化硅、氧化鋁、氮化硅、氮氧化硅中的一種或幾種。

10.根據權利要求8所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述第一有機膜層包括聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯以及環烯烴聚合物中的任意一種或幾種；

所述第三有機膜層包括有機硅化合物或者芳香族；

所述第一無機膜層或所述第二無機膜層包括二氧化硅、氧化鋁、氮化硅、氮氧化硅中的一種或幾種。

11.根據權利要求9所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

形成所述第一有機膜層的厚度為5～50μm；

形成所述第二有機膜層的厚度為0.1～1μm；

形成所述第一無機膜層的厚度為0.01～0.1μm。