[發(fā)明專利]一種對CT投影數(shù)據(jù)進行濾波的方法及裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510979443.4
• 申請日: 2015-12-23
• 公開（公告）號: CN106910164A
• 公開（公告）日: 2017-06-30
• 發(fā)明（設計）人: 曹蹊渺;王學禮
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 侯穎媖

1.一種對CT投影數(shù)據(jù)進行濾波的方法，其特征是，包括：

獲取所述CT投影數(shù)據(jù)中的高頻軌跡；以及

基于所述高頻軌跡的走向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征是，所述基于所述高頻軌跡的走向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波的步驟進一步包括：

沿著所述高頻軌跡的走向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波。

3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征是，所述基于所述高頻軌跡的走向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波的步驟進一步包括：

沿著與所述高頻軌跡的切線相垂直的方向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波。

4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征是，所述基于所述高頻軌跡的走向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波的步驟進一步包括：

在由所述CT投影數(shù)據(jù)組成的正弦圖上的360度方向上選取多個濾波方向；

在所述多個濾波方向中，對與所述高頻軌跡的走向最接近的濾波方向設置較大的權重值并對所述多個濾波方向中的其他濾波方向設置較小權重值；以及

根據(jù)所述權重值在所述多個濾波方向上對所述CT投影數(shù)據(jù)進行濾波。

5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征是，所述基于所述高頻軌跡的走向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波的步驟進一步包括：

在由所述CT投影數(shù)據(jù)組成的正弦圖上的360度方向上選取多個濾波方向；

在所述多個濾波方向中，對與所述高頻軌跡的切線的垂直線方向最接近的濾波方向設置較大權重值并對所述多個濾波方向中的其他濾波方向設置較小權重值；以及

根據(jù)所述權重值在所述多個濾波方向上對所述CT投影數(shù)據(jù)進行濾波。

6.一種對CT投影數(shù)據(jù)進行濾波的裝置，其特征是，包括：

高頻軌跡獲取模塊，用于獲取所述CT投影數(shù)據(jù)中的高頻軌跡；以及

高頻軌跡濾波模塊，用于基于所述高頻軌跡的走向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波。

7.根據(jù)權利要求6所述的裝置，其特征是，所述高頻軌跡濾波模塊進一步包括：

沿軌跡走向濾波模塊，用于沿著所述高頻軌跡的走向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波。

8.根據(jù)權利要求6所述的裝置，其特征是，所述高頻軌跡濾波模塊進一步包括：

沿垂線方向濾波模塊，用于沿著與所述高頻軌跡的切線相垂直的方向?qū)λ鯟T投影數(shù)據(jù)進行濾波。

9.根據(jù)權利要求6所述的裝置，其特征是，所述高頻軌跡濾波模塊進一步包括：

多濾波方向選取模塊，用于在由所述CT投影數(shù)據(jù)組成的正弦圖上的360度方向上選取多個濾波方向；

第一權重設置模塊，用于在所述多個濾波方向中，對與垂直于所述高頻軌跡的切線的方向最接近的濾波方向設置最大的權重值并對所述多個濾波方向中的其他濾波方向設置較小權重值；以及

多濾波方向濾波模塊，用于根據(jù)所述權重值在所述多個濾波方向上對所述CT投影數(shù)據(jù)進行濾波。

10.根據(jù)權利要求6所述的裝置，其特征是，所述高頻軌跡濾波模塊進一步包括：

多濾波方向選取模塊，用于在由所述CT投影數(shù)據(jù)組成的正弦圖上 的360度方向上選取多個濾波方向；

第二權重設置模塊，用于在所述多個濾波方向中，對與所述高頻軌跡的切線的垂直線方向最接近的濾波方向設置較大權重值并對所述多個濾波方向中的其他濾波方向設置較小權重值；以及

多濾波方向濾波模塊，用于根據(jù)所述權重值在所述多個濾波方向上對所述CT投影數(shù)據(jù)進行濾波。