[發明專利]研磨墊的表面性狀測定方法和裝置

有效

• 申請號: 201510973911.7
• 申請日: 2015-12-22
• 公開（公告）號: CN105738320B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 松尾尚典;望月宣宏;鈴木惠友;田尻貴寬;卡瓊路魯安帕納特
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所;國立大學法人九州工業大學
• 主分類號: G01N21/47
• 分類號: G01N21/47;G01B11/30;B24B53/017
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 梅高強;張麗穎

1.一種研磨墊的表面性狀測定方法，求出研磨墊的表面性狀，其特征在于，

使光源擺動，從而以多個角度向研磨墊入射激光，

接受分別與所述多個角度對應的來自所述研磨墊的表面的多個反射光，該多個反射光的反射角不同，

分別對所述多個反射光進行傅里葉轉換，從而求出所述研磨墊的多個表面性狀。

2.根據權利要求1所述的研磨墊的表面性狀測定方法，其特征在于，

從比布魯斯特角大的角度范圍中選擇所述激光的多個入射角，所述布魯斯特角是與作為測定對象的研磨墊材料相對應的角度。

3.根據權利要求1所述的研磨墊的表面性狀測定方法，其特征在于，

根據作為測定對象的研磨墊材料、研磨墊表面的修整條件、進行研磨墊的修整的修整器部件的種類選擇所述激光的多個入射角。

4.根據權利要求1所述的研磨墊的表面性狀測定方法，其特征在于，

將利用所述激光的多個入射角得到的研磨墊表面性狀中的、并不是利用所有的入射角而是利用一部分的入射角得到的墊表面性狀作為該研磨墊的代表性表面性狀。

5.一種測定研磨墊的表面性狀的裝置，其特征在于，

具有：光學系統，該光學系統能夠相對于研磨墊以至少兩個角度入射激光；以及運算處理裝置，該運算處理裝置分別對由所述光學系統得到的來自研磨墊的多個反射光進行傅里葉轉換而求出研磨墊的多個表面性狀；

其中，所述光學系統包括：

光源，所述光源射出所述激光；

第一反射鏡，所述第一反射鏡反射從所述光源射出的所述激光，并且以第一角度向所述研磨墊入射反射的激光；以及

第二反射鏡，所述第二反射鏡被設置在高于所述第一反射鏡的位置處，并且反射從所述光源射出的所述激光且以第二角度向所述研磨墊入射反射的激光。

6.根據權利要求5所述的測定研磨墊的表面性狀的裝置，其特征在于，

所述光學系統進一步包括受光部，所述受光部包含CCD元件或者CMOS元件。

7.一種CMP裝置，其特征在于，具有：

權利要求5所述的測定研磨墊的表面性狀的裝置；

載體，該載體保持作為研磨對象物的基板并將該基板按壓到所述研磨墊；

研磨臺，該研磨臺保持所述研磨墊，并使所述研磨墊旋轉；以及

修整器，所述修整器進行所述研磨墊的修整。

8.根據權利要求5所述的測定研磨墊的表面性狀的裝置，其特征在于，

從所述光源射出的所述激光透過所述第一反射鏡且被所述第一反射鏡折射，并且使折射光向所述第二反射鏡入射。

9.根據權利要求5所述的測定研磨墊的表面性狀的裝置，其特征在于，

所述光學系統進一步包括分光器，所述分光器被設置在所述第一反射鏡和所述光源之間，所述分光器將從所述光源射出的所述激光分支。

10.一種研磨墊的表面性狀測定方法，求出研磨墊的表面性狀，其特征在于，

使反射鏡移動，從而以多個角度向研磨墊入射激光，所述反射鏡反射從光源射出的激光，并且進一步向所述研磨墊入射反射的激光，

接受分別與所述多個角度對應的來自所述研磨墊的表面的多個反射光，該多個反射光的反射角不同，

分別對所述多個反射光進行傅里葉轉換，從而求出所述研磨墊的多個表面性狀。

11.根據權利要求10所述的研磨墊的表面性狀測定方法，其特征在于，

從比布魯斯特角大的角度范圍中選擇所述激光的多個入射角，所述布魯斯特角是與作為測定對象的研磨墊材料相對應的角度。

12.根據權利要求10所述的研磨墊的表面性狀測定方法，其特征在于，

根據作為測定對象的研磨墊材料、研磨墊表面的修整條件、進行研磨墊的修整的修整器部件的種類選擇所述激光的多個入射角。