[發明專利]一種掩模更換裝置及高通量樣品制備方法

在審

• 申請號: 201510973339.4
• 申請日: 2015-12-21
• 公開（公告）號: CN105372112A
• 公開（公告）日: 2016-03-02
• 發明（設計）人: 閆宗楷;徐子明;向勇;胡潔赫;余應明
• 申請（專利權）人: 寧波英飛邁材料科技有限公司
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28
• 代理公司: 寧波誠源專利事務所有限公司 33102
• 代理人: 劉鳳欽;王瑩

1.一種掩模更換裝置，其特征在于：包括有能夠進行轉動的掩模轉臺(1)、用于驅動所述掩模轉臺(1)進行轉動的第一驅動裝置(11)、用于放置基片的基片臺(2)，用于驅動基片臺(2)進行轉動和升降的第二驅動裝置(21)，所述掩模轉臺(1)與所述第一驅動裝置(11)傳動連接，所述基片臺(2)和所述第二驅動裝置(21)傳動連接；

所述轉臺(1)上具有多個用于放置分立掩模的掩模安裝位(12)，放置在所述掩模安裝位(12)內的分立掩模能夠隨著掩模轉臺(1)對應轉動至所述基片臺(2)的上方。

2.根據權利要求1所述的掩模更換裝置，其特征在于：所述掩模轉臺(1)上具有能夠供所述基片臺(2)通過的連續掩模工作位(13)。

3.根據權利要求2所述的掩模更換裝置，其特征在于：還包括有連續掩模板(3)和用于驅動連續掩模板(3)線性移動的第三驅動裝置(31)，所述連續掩模板(3)傳動連接在所述第三驅動裝置(31)上，所述連續掩模板(3)能夠在第三驅動裝置(31)的驅動下對應于基片臺(2)的位置在基片臺(2)的上方線性移動。

4.根據權利要求3所述的掩模更換裝置，其特征在于：還包括有一機架(4)，所述第一驅動裝置(11)、第二驅動裝置(21)、第三驅動裝置(31)均設置在所述機架(4)內，所述掩模轉臺(1)傳動連接在第一驅動裝置(11)的上端，所述基片臺(2)傳動連接在第二驅動裝置(21)的上端，所述基片臺(2)對應于所述連續掩模工作位(13)的位置設置，所述連續掩模板(3)位于了所述掩模轉臺(1)的上方并在第三驅動裝置(31)的驅動下在連續掩模工作位(13)上方線性水平移動。

5.根據權利要求4所述的掩模更換裝置，其特征在于：所述機架(4)上設置有用于限位所述連續掩模板(3)移動方向的限位裝置(32)。

6.根據權利要求4所述的掩模更換裝置，其特征在于：所述連續掩模板(3)通過傳動裝置(33)連接在所述第三驅動裝置(31)上。

7.根據權利要求3～6任一權利要求所述的掩模更換裝置，其特征在于：所述連續掩模板(3)為連續掩模或者為能夠更換放置不同掩模的掩模臺。

8.一種高通量樣品的制備方法，其特征在于：包括高通量樣品的分立掩模制備方法、高通量樣品的連續掩模制備方法和交叉制備方法；

所述高通量樣品的分立掩模制備方法包括以下步驟：

步驟A1、將基片放置在基片臺(2)上，將所有需要的分立掩模安裝在掩模轉臺(1)的分立掩模安裝位(12)上；

步驟A2、根據材料樣品的分布要求，掩模轉臺(1)在第一驅動裝置(11)的驅動下轉動，進而將當次需要的分立掩模轉動至基片的上方；

步驟A3、第二驅動裝置(21)根據需要驅動基片臺(2)轉動所需角度，以將基片相對于分立掩模的相對水平角度調整至需要的相對位置，然后第二驅動裝置(21)驅動基片臺(2)向上移動，使得基片緊密貼覆在分立掩模上；

步驟A4、在基片上進行當次材料的沉積；

步驟A5、第二驅動裝置(21)驅動基片臺(2)向下移動，使得基片離開分立掩模；

步驟A6、返回步驟A2，直至按照工藝參數要求完成所有材料在基片上的沉積；

所述高通量樣品的連續掩模制備方法包括以下步驟：

步驟B1、將基片放置在基片臺(2)上，保證掩模轉臺(1)上的連續掩模工作位(13)對應于基片臺(2)；

步驟B2、第二驅動裝置(21)驅動基片臺(2)上下移動以將基片與連續掩模板(3)間的垂直間隙調整到要求的距離，同時根據需要第二驅動裝置(21)驅動基片臺(2)轉動所述角度，以將基片相對于連續掩模板(3)的相對水平角度調整至需要的相對位置；

步驟B3、根據當次材料沉積厚度的要求，第三驅動裝置(31)驅動所述連續掩模板(3)向基片方向按照所需速度線性移動；

步驟B4、在連續掩模板(3)經過基片上方時，在基片上進行當次材料沉積；

步驟B5、當次材料沉積完成后，第三驅動裝置(31)驅動所述連續掩模板(3)退回到初始位置；

步驟B6、返回步驟B2，直至按照工藝參數要求完成所有材料在基片上的沉積；

交叉制備方法包括以下步驟：

步驟C1、將基片放置在基片臺(2)上，將需要安裝在掩模轉臺(1)的掩模安裝位(12)上的掩模安裝在對應的掩模安裝位(12)上；

步驟C2、根據材料樣品的分布要求，交替使用所述分立掩模制備方法中的步驟A2～步驟A5和所述連續掩模制備方法中的步驟B2～步驟B5，在使用所述連續掩模制備方法中的步驟B2～步驟B5前，使用第一驅動裝置(11)驅動掩模轉臺(1)轉動，以使得掩模轉臺(1)上的連續掩模工作位(13)對應于基片臺(2)；

步驟C3：在基片上沉積所需材料，直至按照工藝參數要求完成所有材料在基片上的沉積。