[發(fā)明專利]一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的制備工藝及其制品有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510967437.7 | 申請日: | 2015-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN105428325B | 公開(公告)日: | 2017-03-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭桂冠;王政堯 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州日月新半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/28 | 分類號: | H01L23/28;H01L23/13;H01L21/56 |
| 代理公司: | 廣州市紅荔專利代理有限公司44214 | 代理人: | 付春霞 |
| 地址: | 215021 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬 屏蔽 單層 超薄 封裝 結(jié)構(gòu) 制備 工藝 及其 制品 | ||
1.一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的制備工藝,其特征在于,其制備工藝步驟為:
1)進(jìn)行基板加工,得到單層基板;
2)對得到的單層基板進(jìn)行元件封裝和膠封,得到單層基板封裝體;
3)采用半切工藝對單層基板封裝體進(jìn)行半切,形成通過背銅相連的獨立封裝體;
4)對通過背銅相連的獨立封裝體的背銅以外的表面進(jìn)行金屬屏蔽層電鍍;
5)移除底層連接處的背銅,露出底面引腳,得到獨立的半成品封裝體;
6)對半成品封裝體進(jìn)行集中翻轉(zhuǎn)固定,對其底面引腳進(jìn)行集中處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的制備工藝,其特征在于,在第1)步中進(jìn)行基板加工,得到單層基板的具體步驟為:
a)取一載板,在載板的上下兩面分別壓合銅層,將銅層均蝕刻變薄,在載板兩面的銅層上電鍍銅柱;
b)待銅柱電鍍結(jié)束后,在載板的兩面壓合BT樹脂和金屬銅層,使銅柱封裝于BT樹脂層中,得到基體;
c)在基體上開銅窗和鉆孔,將開設(shè)的銅窗和鉆孔進(jìn)行電鍍,形成引腳;對基體上的金屬銅層進(jìn)行圖形光刻和蝕刻,形成第一導(dǎo)線層,此時形成基板基體;
d)在基板基體上的引腳處設(shè)置阻焊層,阻焊層為防焊膜綠漆;
e)在基板基體上的引腳處表面電鍍鎳層或金層;
f)將基板基體上的載板移除,分別得到載板兩側(cè)的單層基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的制備工藝,其特征在于,所述帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的厚度為0.2-0.8mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的制備工藝,其特征在于,第2)步對單層基板封裝體進(jìn)行元件封裝和膠封時的具體步驟為:對得到的單層基板封裝體進(jìn)行元件封裝和引線鍵合或倒裝芯片操作,固化IC芯片后,并進(jìn)行膠封,使IC芯片、引腳、鍵合線或凸塊封裝于膠封體內(nèi),膠封體的厚度為0.175-0.48mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的制備工藝,其特征在于,第3)步采用半切工藝對單層基板封裝體進(jìn)行半切的具體步驟為:對第2)步中得到的單層基板封裝體進(jìn)行鐳射切割,采用halfcut工藝對單層基板封裝體進(jìn)行半切,形成通過背銅相連的獨立封裝體,半切時保留單層基板封裝體的背銅不被切穿,保留的背銅銅層厚度為11-25um,相鄰封裝體間的半切間距為0.125-0.8mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝體的制備工藝,其特征在于,第4)步鍍金屬屏蔽層時,在獨立封裝體除底面背銅以外的表面鍍銅或不銹鋼,使金屬屏蔽層的厚度大于1um。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的制備工藝,其特征在于,在第6)步中,對底面引腳進(jìn)行集中處理時,通過植錫球或印刷錫膏對引腳進(jìn)行集中處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)的制備工藝,其特征在于,在第6)步中,對底面引腳進(jìn)行集中處理時,通過化鍍對引腳進(jìn)行處理,先在引腳上鍍一層鎳層,然后再鍍一層金層。
9.根據(jù)上述權(quán)利要求所制得的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu),包括金屬屏蔽層、膠封體、阻焊層、鎳或金層、單層基板、BT樹脂層、封裝元件、引腳;其特征在于:所述的金屬屏蔽層覆蓋在單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu)除底層外的表面上,金屬屏蔽層的厚度大于1um。
10.根據(jù)上述權(quán)利要求9所述的一種帶金屬屏蔽層的單層超薄基板封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:封裝結(jié)構(gòu)的單層基板的厚度為0.05-0.3mm。
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