[發(fā)明專利]基底處理裝置、器件制造系統(tǒng)、以及器件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510964816.0
• 申請日: 2012-10-11
• 公開（公告）號: CN105425553B
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 加藤正紀
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/24
• 分類號: G03F7/24;G02B13/22;G02B13/24;G02B17/00;G02B17/08
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 湯在彥

1.一種基底處理裝置，是將反射性的光掩膜圖案的像投影曝光于感應(yīng)基底上，其特征在于，其具備：

光掩膜保持構(gòu)件，保持所述光掩膜圖案；投影光學(xué)系統(tǒng)，將從設(shè)定于所述光掩膜圖案上一部分的照明區(qū)域產(chǎn)生的反射光束往所述感應(yīng)基底投射，借此將所述光掩膜圖案一部分的像成像于設(shè)定在所述感應(yīng)基底上的一部分的投影區(qū)域；光學(xué)構(gòu)件，包含：為了對所述照明區(qū)域進行落斜照明而配置于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光路內(nèi)、使往所述照明區(qū)域的照明光與從所述照明區(qū)域產(chǎn)生的反射光束中的一方通過的部分與使另一方反射的部分；以及照明光學(xué)系統(tǒng)，生成作為所述照明光的源的光源像，經(jīng)由所述投影光學(xué)系統(tǒng)的一部分光路與所述光學(xué)構(gòu)件使來自所述光源像的照明光往所述照明區(qū)域，且將與所述光源像在光學(xué)上共軛的共軛面形成于所述光學(xué)構(gòu)件的反射部分或通過部分的位置或近旁。

2.一種基底處理裝置，是將反射性的光掩膜圖案的像投影曝光于感應(yīng)基底上，其特征在于，其具備：光掩膜保持構(gòu)件，保持所述光掩膜圖案；投影光學(xué)系統(tǒng)，將從設(shè)定于所述光掩膜圖案上一部分的照明區(qū)域產(chǎn)生的反射光束往所述感應(yīng)基底投射，借此將所述光掩膜圖案一部分的像成像于設(shè)定在所述感應(yīng)基底上的一部分的投影區(qū)域；光學(xué)構(gòu)件，包含：為了對所述照明區(qū)域進行落斜照明而配置于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光路內(nèi)、使往所述照明區(qū)域的照明光與從所述照明區(qū)域產(chǎn)生的反射光束中的一方通過的部分與使另一方反射的部分；以及照明光學(xué)系統(tǒng)，將作為所述照明光的源的多個光源像規(guī)則地或隨機地形成于所述光學(xué)構(gòu)件的反射部分或通過部分的位置或其近旁。

3.如權(quán)利要求1的基底處理裝置，其特征在于，所述光學(xué)構(gòu)件配置于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的瞳面的位置或近旁，相對所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸通過的所述瞳面上的中心點，所述反射部分與所述通過部分在所述瞳面內(nèi)配置于點對稱的區(qū)域。

4.如權(quán)利要求2的基底處理裝置，其特征在于，所述光學(xué)構(gòu)件的通過部分，在形成所述光源像的面內(nèi)離散地形成多個，且各通過部分相對所述面上的中心點配置于彼此為非點對稱的區(qū)域。

5.如權(quán)利要求1至4中任一項的基底處理裝置，其特征在于，所述光學(xué)構(gòu)件具有多個所述通過部分；在所述光學(xué)構(gòu)件中所述反射光束射入的射入端面中，所述多個通過部分的間隔比所述反射光束的點大。

6.如權(quán)利要求1至4中任一項的基底處理裝置，其特征在于，所述照明光學(xué)系統(tǒng)具備：第1光學(xué)系統(tǒng)，對所述光學(xué)構(gòu)件中朝向所述反射光束射入的射入端面的相反側(cè)的相反面照射所述照明光，于所述通過部分形成光源像；以及第2光學(xué)系統(tǒng)，將相對于所述光源像的與所述第1光學(xué)系統(tǒng)的瞳面共軛的面形成于所述照明區(qū)域。

7.如權(quán)利要求6的基底處理裝置，其特征在于，所述第1光學(xué)系統(tǒng)具備：透鏡陣列，包含形成光源像的多個透鏡要件；以及中繼透鏡，將形成于所述透鏡要件的光源像中繼至所述通過部分。

8.如權(quán)利要求7的基底處理裝置，其特征在于，所述中繼透鏡具備：第1透鏡，形成相對于形成于所述透鏡要件的光源像的瞳面；以及第2透鏡，相對所述第1透鏡的中心軸為偏心。

9.如權(quán)利要求8的基底處理裝置，其特征在于，所述多個透鏡要件，相對所述第1透鏡的中心軸配置于彼此為非對稱的區(qū)域。

10.如權(quán)利要求8的基底處理裝置，其特征在于，所述第2透鏡的中心軸與所述第2光學(xué)系統(tǒng)的光軸為同軸。

11.如權(quán)利要求6的基底處理裝置，其特征在于，所述第1光學(xué)系統(tǒng)具備桿透鏡；所述桿透鏡具有：從光源射入所述照明光的射入端面；射入所述桿透鏡的所述射入端面的所述照明光反射的內(nèi)面；以及配置于與所述照明區(qū)域共軛的位置、在所述桿透鏡的所述內(nèi)面反射的所述照明光射出的射出端面。

12.如權(quán)利要求11的基底處理裝置，其特征在于，連結(jié)所述桿透鏡的所述射入端面的中心與所述桿透鏡的所述射出端面的中心的中心軸相對所述第2光學(xué)系統(tǒng)的光軸為偏心。