[發明專利]微縮投影系統波像差檢測過程中的視場點定位方法

有效

• 申請號: 201510960030.1
• 申請日: 2015-12-21
• 公開（公告）號: CN105589305B
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發明（設計）人: 謝耀;周烽;王麗萍;王輝;郭本銀;張文龍;金春水
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G01J9/00;G01M11/02
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所(普通合伙)22210
• 代理人: 朱紅玲

1.微縮投影系統波像差檢測過程中的視場點定位方法，其特征是，該方法由以下步驟實現：

步驟一、采用三坐機對主鏡(1)和次鏡(6)的反射面輪廓進行測量，獲得主鏡(1)和次鏡(6)的中心厚度，并根據獲得的中心厚度確定主鏡(1)和次鏡(6)的間距；

步驟二、在三坐標機上完成在吊裝狀態下次鏡(6)、次鏡支撐結構(7)以及次鏡支撐環(8)的裝配，通過調整次鏡支撐結構(7)和次鏡支撐環(8)的相對位置，保證所述次鏡(6)的外輪廓與次鏡支撐環(8)外輪廓同軸度和垂直度；然后完成主鏡(1)、主鏡支撐結構(2)、主鏡支撐環(3)、主鏡調整機構(4)和主鏡支撐盤(5)的裝配，通過調整主鏡支撐結構(2)和主鏡支撐環(3)的相對位置，保證主鏡(1)的外輪廓與主鏡支撐環(3)的外輪廓同軸度和垂直度以及主鏡(1)背面與主鏡支撐盤(5)平行度；

步驟三、采用定心儀調整機構(10)和平晶(9)，調整次鏡(6)反射面相對于次鏡支撐環(8)的面傾斜度以及次鏡(6)反射面光軸相對于次鏡支撐環(8)中心軸的偏心量，獲得的次鏡(6)面傾斜度和偏心量；調整主鏡(1)反射面相對于主鏡支撐環(3)的面傾斜度以及主鏡(1)反射面光軸相對于主鏡支撐環(3)中心軸的偏心量，獲得主鏡(1)面傾斜度和偏心量；

步驟四、根據步驟一獲得的主鏡(1)和次鏡(6)的間距在三坐標機上完成微縮投影系統的裝配，保證主鏡(1)和次鏡(6)的外輪廓同軸度；

步驟五、在三坐標機上完成凹面反射鏡(11)在次鏡(6)背面的裝配；所述凹面反射鏡(11)的球心位置即為系統定位的視場點；

所述凹面反射鏡(11)是指：根據微縮投影系統特殊設計的凹面反射鏡，所述特殊設計的凹面反射鏡的曲率半徑、中心厚度根據微縮投影系統的物距設定。

2.根據權利要求1所述的微縮投影系統波像差檢測過程中的視場點定位方法，其特征在于，在步驟五之后，還包括根據步驟一獲得的主鏡(1)和次鏡(6)的中心厚度和步驟三獲得的次鏡(6)面傾斜度和偏心量、主鏡(1)面傾斜度和偏心量對被測的視場點的定位誤差進行修改正。

3.根據權利要求1所述的微縮投影系統波像差檢測過程中的視場點定位方法，其特征在于，所述凹面反射鏡(11)包括反射面和背面凸臺組成，所述背面凸臺用于將凹面反射鏡(11)安裝在次鏡(6)的背面，使裝配后的凹面反射鏡(11)球心即為微縮投影系統波像差檢測過程中的被測視場點。