[發明專利]一種真空自密封光學潔凈系統

在審

• 申請號: 201510959613.2
• 申請日: 2015-12-21
• 公開（公告）號: CN105425393A
• 公開（公告）日: 2016-03-23
• 發明（設計）人: 吳春霞;鮮玉強;陳永亮;張林;嚴從林;張偉;陳濤;葉長春;蘇友斌
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院應用電子學研究所
• 主分類號: G02B27/00
• 分類號: G02B27/00;G02B7/00
• 代理公司: 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214
• 代理人: 卿誠;吳彥峰

1.一種真空自密封光學潔凈系統，其特征是：包括有自密封裝置、抽真空單元、環境監測單元、充氮氣單元和操控單元；所述自密封裝置與抽真空單元、充氮氣單元和環境監測單元連接；所述操控單元能夠接收環境監測單元的回傳信號并控制抽真空單元和充氮氣單元的啟停。

2.根據權利要求1所述的一種真空自密封光學潔凈系統，其特征是：所述自密封裝置包括有封蓋板、框架、光束輸入輸出端口、光路平臺、充氣口、真空口；所述封蓋板與框架之間固定連接；所述光路平臺與框架固定連接；所述光束輸入輸出端口、充氣口和真空口設置在框架上；所述充氣口與充氮氣單元連接；所述抽氣口與抽真空單元連接；所述環境監測單元設置在由框架、封蓋板和光路平臺組成的封閉區域內。

3.根據權利要求2所述的一種真空自密封光學潔凈系統，其特征是：所述框架和封蓋板之間的接觸面上設置有密封件。

4.根據權利要求2所述的一種真空自密封光學潔凈系統，其特征是：所述光束輸入輸出端口與框架的接觸面上設置有密封件。

5.根據權利要求2所述的一種真空自密封光學潔凈系統，其特征是：所述框架上設置有加強筋。

6.根據權利要求2所述的一種真空自密封光學潔凈系統，其特征是：所述框架上設置有電氣連接板。

7.根據權利要求2所述的一種真空自密封光學潔凈系統，其特征是：所述光路平臺與框架的接觸面上設置有密封件。