[發明專利]一種利用含鋅廢液生產氧化鋁鋅的方法在審
| 申請號: | 201510945782.0 | 申請日: | 2015-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN105366708A | 公開(公告)日: | 2016-03-02 |
| 發明(設計)人: | 簡春暉;朱劉 | 申請(專利權)人: | 清遠先導材料有限公司 |
| 主分類號: | C01G9/02 | 分類號: | C01G9/02;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙青朵 |
| 地址: | 511517 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 利用 含鋅 廢液 生產 氧化鋁 方法 | ||
技術領域
本發明屬于氧化鋁鋅領域,尤其涉及一種利用含鋅廢液生產氧化鋁鋅的 方法。
背景技術
ITO靶材是三氧化二銦和二氧化錫的混合物,是ITO薄膜制備的重要原料。 ITO靶主要用于ITO膜透明導電玻璃的制作,后者是制造平面液晶顯示的主要 材料,在電子工業、信息產業方面有著廣闊而重要的應用。
在使用ITO靶材制備ITO薄膜時,通常只有約30%靶材能得到有效使用, 大部分用剩的靶材都做為廢靶回收其中的金屬銦和金屬錫。在回收ITO廢靶中 金屬銦和金屬錫時,目前普遍采用的工藝是先用酸液溶解廢靶,然后采用銦 板置換溶解液中金屬錫,最后再用鋅錠置換溶解液中的金屬銦。采用這種工 藝雖然可以對ITO廢靶中金屬銦和金屬錫進行有效回收,但同時也會產生大量 的含鋅廢液。
由于ITO靶材的純度通常都在99.9995%以上,且在使用過程中也不易受到 污染,同時在ITO廢靶回收過程中使用的銦板和鋅錠通常也是純度99%以上的 高純金屬,因此ITO廢靶回收產生的含鋅廢液中除了富含大量的Zn2+之外,僅 會有少量的Fe3+和微量的Fe2+、In3+、Sn4+,其他雜質很少。
ITO廢靶回收產生的含鋅廢液作為一種低雜的富鋅溶液如果直接作為廢 液處理顯然有些過于浪費,因此如何實現該含鋅廢液的資源化利用是目前亟 待解決的一個問題。
發明內容
有鑒于此,本發明的目的在于提供一種利用含鋅廢液生產氧化鋁鋅的方 法,本發明提供的方法以含鋅廢液作為原料生產氧化鋁鋅,實現了含鋅廢液 的資源化利用。
本發明提供了一種利用含鋅廢液生產氧化鋁鋅的方法,包括以下步驟:
a)、含鋅廢液和鋁在pH值為2~4的條件下進行反應,得到反應液;
所述含鋅廢液包括Zn2+和Fe3+;
b)、所述反應液進行過濾,過濾得到的濾液在pH值為6~8的條件下進 行沉淀反應,得到沉淀物;
c)、所述沉淀物進行煅燒,得到氧化鋁鋅。
優選的,所述鋁和含鋅廢液中Zn2+的摩爾比為(0.01~0.1):(1~1.5)。
優選的,所述含鋅廢液還包括Fe2+;步驟a)中,所述反應在氧化劑存在 下進行。
優選的,所述氧化劑包括雙氧水和/或高錳酸鉀。
優選的,步驟b)中,所述濾液先與分散劑混合,再進行沉淀反應。
優選的,所述分散劑包括聚丙酸鈉、聚丙烯酰胺和硅酸鈉中的一種或多 種。
優選的,步驟c)中,所述沉淀物依次進行陳化、洗滌、干燥、粉碎和過 篩后,再進行煅燒。
優選的,所述陳化的時間大于12h。
優選的,步驟c)中,所述煅燒的溫度為600~1000℃;所述煅燒的時間 為2~6h。
優選的,所述廢液還包括In3+和/或Sn4+。
與現有技術相比,本發明提供了一種利用含鋅廢液生產氧化鋁鋅的方法。 本發明提供的方法包括以下步驟:a)、含鋅廢液和鋁在pH值為2~4的條件 下進行反應,得到反應液;所述含鋅廢液包括Zn2+和Fe3+;b)、所述反應液 進行過濾,過濾得到的濾液在pH值為6~8的條件下進行沉淀反應,得到沉淀 物;c)、所述沉淀物進行煅燒,得到氧化鋁鋅。本發明提供的方法以含有一 定量Fe3+的富鋅離子廢液作為原料,首先通過控制廢液和鋁反應時的pH值, 在保證鋁能夠在廢液中溶解的同時使廢液中的Fe3+以Fe(OH)3的形式析出,實 現了廢液中Fe3+的脫除;之后對溶解有鋁離子的富鋅離子廢液進行共沉淀處 理,得到鋁鋅氫氧化物共沉淀物;最后對所述共沉淀物進行煅燒,制得了低 雜質含量的氧化鋁鋅制品,實現了含鋅廢液的資源化利用。實驗結果表明, 采用本發明提供的方法制得的氧化鋁鋅制品的雜質含量低于0.1wt%。
具體實施方式
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