[發(fā)明專利]一種氯化物體系兩步法制備銅銦硒光電薄膜的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510943166.1 | 申請日: | 2015-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN105489672A | 公開(公告)日: | 2016-04-13 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉科高;李靜;許超;徐勇;石磊 | 申請(專利權)人: | 山東建筑大學 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/18 |
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| 地址: | 250101 *** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氯化物 體系 步法 制備 銅銦硒 光電 薄膜 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明屬于太陽能電池用光電薄膜制備技術領域,尤其涉及一種氯化物體系兩步法制備銅銦硒光電薄膜的方法。
背景技術
隨著社會和經(jīng)濟的發(fā)展,能源緊缺及消費能源帶來的污染已成為國內(nèi)社會發(fā)展中的突出問題,煤炭、石油等為不可再生資源,因此開發(fā)利用清潔可再生能源對保護環(huán)境、保證經(jīng)濟可持續(xù)發(fā)展和構筑和諧社會都有重要的意義。光伏發(fā)電具有安全可靠、無噪聲、無污染、制約少、故障率低、維護簡便等優(yōu)點,可以利用太陽能這種清潔、安全和環(huán)保的可再生能源,因此近幾十年來太陽能電池的研究和開發(fā)日益受到重視。
銅銦硒薄膜太陽電池目前可以認為是最有發(fā)展前景的薄膜電池,這是因為其吸收層材料CuInSe2具有一系列的優(yōu)點:(1)在CuInSe2基礎上摻雜其它元素,如使Ga或Al部分取代In原子,用S部分取代Se即制備成Cu(In1-xGax)Se2,Cu(In1-xGax)(Se2-ySy),Cu(In1-xAlx)(Se2-xSx),其晶體結構仍然是黃銅礦。改變其中Ga/(Ga+In)等的原子比,可以使其禁帶寬度在1.04~1.72eV之間變化,包含高效率吸收太陽光的帶隙范圍1.4~1.6eV;(2)CuInSe2、Cu(In1-xGax)Se2是直接帶隙的半導體材料,對太陽光譜響應特性非常大,它的吸收系數(shù)很高,光吸收率高達1~6×105cm-1,因而電池中所需CuInSe2、Cu(In1-xGax)Se2薄膜厚度很小,約2μm,最適于太陽電池薄膜化;(3)化學計量比CuInSe2的光量子效率高;(4)高的光電轉換效率;(5)在較寬成分范圍內(nèi)電阻率都較?。?6)抗輻射能力強,沒有光致衰減效應,因而使用壽命長;(7)Cu(In1-xGax)Se2系電池容易做成多結系統(tǒng)。在4個結電池中,從光線入射方向按禁帶寬度由大到小順序排列,這時的理論轉換效率極限可以超過50%。(8)P型CIGS材料的晶格結構與電子親和力都能跟普通N型窗口材料(如CdS、ZnO)匹配。
目前處于先進水平的Cu(In1-xGax)Se2光伏吸收材料都是在真空條件下沉積制備的,主要有真空蒸鍍法和(銅銦合金膜)濺射—硒化法。CuInSe2基吸收層的生產(chǎn)需要采用沉積合金層的昂貴的真空技術。真空技術中操作復雜難度大,所得薄膜也不均勻。另外含有硒化的工藝中薄膜也不均勻,難以控制各組分的化學計量比,其中H2Se和Se的毒氣污染環(huán)境和危害操作人員。
與前面所述方法一樣,其它方法也有不同的缺陷。與本發(fā)明相關的還有如下文獻:
[1]M.Valdés,M.Vázquez,A.Goossens,ElectrodepositionofCuInSe2andIn2Se3onflatandnanoporousTiO2substrates,ElectrochimicaActa54(2008)524–529.
主要描述了用電沉積法分別制備In2Se3和CuInSe2薄膜,并對其性能進行了表征。
[2]AmolC.Badgujar,SanjayR.Dhage,ShrikantV.Joshi,Processparameterimpactonpropertiesofsputteredlarge-areaMobilayersforCIGSthinfilmsolarcellapplications,ThinSolidFilms589(2015)79–84.
主要描述了用濺射法制備濺射CIGS,并研究了濺射工藝參數(shù)對其性能的影響。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





