[發明專利]通過激光刻痕取向硅鋼冷軋板改善硅鋼片磁性能的方法

在審

• 申請號: 201510934477.1
• 申請日: 2015-12-14
• 公開（公告）號: CN105463172A
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發明（設計）人: 朱業超;方澤民;曹陽;駱忠漢;李大明;程祥威;徐惠英;王常成;田文洲
• 申請（專利權）人: 武漢鋼鐵（集團）公司
• 主分類號: C21D8/12
• 分類號: C21D8/12;C22C38/02;C22C38/16;C22C38/06
• 代理公司: 武漢開元知識產權代理有限公司 42104
• 代理人: 王和平

技術領域

本發明涉及取向硅鋼處理方法，具體是一種通過激光刻痕取向 硅鋼冷軋板改善硅鋼片磁性能的方法。

背景技術

取向硅鋼是一種重要的軟磁合金，主要用于電力電子工業，作為 變壓器、電抗器等設備的鐵心材料，在國民經濟中發揮著重要作用。 隨著取向硅鋼生產技術進步，很多企業已經實現全HiB化。俄羅斯 新力佩斯克鋼鐵公司采用的提高含銅低溫一般取向硅鋼磁感的方法 (WO2004/040025A1)是：調整成分和熱軋工藝，將熱軋加熱溫度 提高到1350-1400℃，成分中碳含量根據硅含量進行調整，硅含量在 3.15％的基礎上每增加0.1％，碳含量則在0.028％的基礎上增加 0.003％，目的是在а-γ-а相的再結晶溫度區進行熱軋，在精軋結束 階段，鋼中奧氏體的體積百分比不大于3％，其他工藝和成分基本不 變，可以使磁感提高到1.90-1.92T。這種方法的最大缺點是需要大幅 度提高熱軋加熱溫度，從而失去了低溫加熱的優勢。專利US5653821 報道一種含銅低溫一般取向硅鋼生產方法，該方法成分特點是：Cu 為0.4-0.6％，Als為0.018-0.025％，N為0.0080-0.012％，另外還添加 了總量為0.06-0.18％的Ni和Cr，工藝路線與維茲鋼鐵公司相近。中 間厚度為0.60-0.65mm，中間退火溫度為820-870℃，成品厚度 0.27-0.30mm，回復退火溫度為500-750℃。磁感B8在1.89-1.92T范 圍，這種方法缺點是Ni的加入量較大，造成生產成本增加，另外， 假如較多的Ni和Cr會造成底層不良。

目前世界上的激光刻痕技術主要用于在取向硅鋼成品上刻痕細 化磁疇，降低鐵損。如專利US2004040629A1提出在鋼帶表面形成具 有一定形貌的熔融重凝固層的方法，這種方法要求熔融重凝固層的深 度大于等于15μm，且深度與寬度之比大于等于0.2。專利 ZL201010562949.2提出了一種通過激光刻痕在表面形成一定形狀的 線狀溝槽從而實現耐熱磁疇細化的方法。這些方法的共同特點是在取 向硅鋼成品板上刻痕，其目的是為了降低鐵損，而磁感會略有惡化， 中間工序的冷軋板上刻痕提高磁感的方法未見報道。

發明內容

本發明的目的是為了解決上述背景技術存在的不足，提出一種 既提高磁感，又降低鐵損的通過激光刻痕取向硅鋼冷軋板改善硅鋼 片磁性能的方法。

為了實現以上目的，本發明提供的一種通過激光刻痕取向硅鋼 冷軋板改善硅鋼片磁性能的方法，所述取向硅鋼的成分包括C： 0.02-0.04％，Si：3.0-3.3％，S≤0.004％，Als：0.015-0.025％，N： 0.085-0.014％，Cu：0.45-0.55％，其余為鐵和雜質，其特征在于：對 取向硅鋼冷軋板改善硅鋼片磁性能的步驟包括：煉鋼、熱軋、酸 洗、一次冷軋、中間退火、二次冷軋、激光刻痕、回復退火涂 MgO、高溫退火、涂層及拉伸平整退火。

作為本發明的優選方案，所述熱軋加熱溫度為1250-1300℃。

進一步地，所述激光刻痕的具體步驟為通過刻痕方式、激光功 率、掃描速率、刻痕線間距的控制，在二次冷軋板上垂直于軋向刻 劃出若干條平行布置的線狀或點線狀溝槽，相鄰線狀或點線狀溝槽 的線間距為3～5mm，各條線狀或點線狀溝槽的溝槽深度為10～20μ m、溝槽寬度為40～60μm。

采用本發明可以達到既提高磁感，又降低鐵損的效果，得到的 磁性能為：磁感B₈范圍為1.892-1.920T，鐵損P_17/50范圍為 0.890-1.050W/kg，采用傳統工藝磁性能水平為：磁感B₈范圍為 1.853-1.889T，鐵損P_17/50范圍為1.107-1.271W/kg。同時，由于刻痕 是在底層和涂層形成之前進行的，不會對絕緣涂層產生不利影響。

附圖說明

圖1為刻痕線間距與磁性的關系。

具體實施方式

下面結合附圖及實施例對本發明作進一步說明。