[發明專利]光掩模的制造方法以及顯示裝置的制造方法

有效

• 申請號: 201510926381.0
• 申請日: 2015-12-14
• 公開（公告）號: CN105717738B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 吉川裕
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G03F1/80
• 分類號: G03F1/80;G03F1/82
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;于英慧

1.一種光掩模的制造方法，包含以下工序：通過對在透明基板上形成有光學膜的光掩模基板的所述光學膜進行構圖，形成轉印用圖案，所述光掩模的制造方法的特征在于，包含以下工序：

準備光掩模基板的工序，該光掩模基板是在所述透明基板上形成光學膜，并在該光學膜上涂覆第1抗蝕劑膜而得到的；

第1抗蝕劑圖案形成工序，對所述第1抗蝕劑膜描繪第1描繪圖案并進行顯影；

第1構圖工序，將所述第1抗蝕劑圖案作為掩模來蝕刻去除所述光學膜，使所述透明基板的表面局部露出；

剝離所述第1抗蝕劑圖案，并重新涂覆第2抗蝕劑膜的工序；

第2抗蝕劑圖案形成工序，對所述第2抗蝕劑膜描繪第2描繪圖案并進行顯影，分別使所述透明基板的表面的一部分和所述光學膜的表面的一部分露出；

第2構圖工序，將所述第2抗蝕劑圖案作為掩模，對所述光學膜進行蝕刻減膜；以及

剝離所述第2抗蝕劑圖案的工序，

以所述第2抗蝕劑圖案中的所述透明基板的露出部分成為比所述第1抗蝕劑圖案中的所述透明基板的露出部分小規定量的尺寸的方式，對所述第2描繪圖案實施了尺寸減小。

2.一種光掩模的制造方法，所述光掩模在透明基板上具備轉印用圖案，該轉印用圖案包含透光部和具有期望的曝光光透射率的半透光部，所述光掩模的制造方法的特征在于，包含以下工序：

準備光掩模基板的工序，該光掩模基板是在所述透明基板上形成光學膜，并在該光學膜上涂覆第1抗蝕劑膜而得到的；

第1抗蝕劑圖案形成工序，通過對所述第1抗蝕劑膜描繪第1描繪圖案并進行顯影，去除與所述透光部對應的部分的第1抗蝕劑膜；

第1構圖工序，將所述第1抗蝕劑圖案作為掩模來蝕刻去除所述光學膜，使所述透明基板的表面露出；

剝離所述第1抗蝕劑圖案，并重新涂覆第2抗蝕劑膜的工序；

第2抗蝕劑圖案形成工序，通過對所述第2抗蝕劑膜描繪第2描繪圖案并進行顯影，去除與所述透光部和所述半透光部分別對應的部分的第2抗蝕劑膜；

第2構圖工序，將所述第2抗蝕劑圖案作為掩模，對所述光學膜進行蝕刻減膜，形成具有期望的曝光光透射率的半透光部；以及

剝離所述第2抗蝕劑圖案的工序，

所述第2描繪圖案是對與所述透光部對應的部分實施了尺寸減小而得到的，該尺寸減小使該部分相對于所述透光部的設計尺寸減小規定量的尺寸。

3.根據權利要求2所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

對所述光學膜進行蝕刻減膜時的蝕刻速度作為曝光光的透射率變化量，是0.3％/min～5.0％/min。

4.根據權利要求2所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

進行所述蝕刻減膜的所述光學膜的膜厚為

5.一種光掩模的制造方法，所述光掩模在透明基板上具備轉印用圖案，該轉印用圖案包含遮光部、透光部和具有期望的曝光光透射率的半透光部，所述光掩模的制造方法的特征在于，包含以下工序：

準備光掩模基板的工序，該光掩模基板是在所述透明基板上層疊半透光膜、蝕刻阻擋膜和遮光膜，并在該層疊的膜上涂覆第1抗蝕劑膜而得到的；

第1抗蝕劑圖案形成工序，通過對所述第1抗蝕劑膜描繪第1描繪圖案并進行顯影，去除與所述透光部對應的部分的第1抗蝕劑膜；

第1構圖工序，將所述第1抗蝕劑圖案作為掩模，蝕刻去除所述遮光膜、所述蝕刻阻擋膜和所述半透光膜，使所述透明基板的表面露出；

剝離所述第1抗蝕劑圖案，并重新涂覆第2抗蝕劑膜的工序；

第2抗蝕劑圖案形成工序，通過對所述第2抗蝕劑膜描繪第2描繪圖案并進行顯影，去除與所述透光部和所述半透光部分別對應的部分的第2抗蝕劑膜；

第2構圖工序，將所述第2抗蝕劑圖案作為掩模，蝕刻去除所述遮光膜和所述蝕刻阻擋膜，進而對所述半透光膜進行蝕刻減膜，形成具有所述期望的曝光光透射率的所述半透光部；以及

剝離所述第2抗蝕劑圖案的工序，

所述第2描繪圖案是對與所述透光部對應的部分實施了尺寸減小而得到的，該尺寸減小使該部分相對于所述透光部的設計尺寸減小規定量的尺寸。