[發明專利]一種石英坩堝

有效

• 申請號: 201510909607.6
• 申請日: 2015-12-10
• 公開（公告）號: CN106868583B
• 公開（公告）日: 2019-06-14
• 發明（設計）人: 方峰;鄧德輝;高朝陽;王學鋒;曾澤紅;孫媛
• 申請（專利權）人: 有研半導體材料有限公司
• 主分類號: C30B15/10
• 分類號: C30B15/10;C30B29/06
• 代理公司: 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100
• 代理人: 劉秀青;熊國裕

1.一種石英坩堝，其特征在于，該石英坩堝的坩堝壁包括坩堝底壁、弧度過渡區及圓柱周壁三個部分，從坩堝內表面側至外表面側具有透明石英層和不透明石英層，其中，透明石英層的氣泡含有率小于0.3％，不透明石英層的氣泡含有率為0.6％以上；弧度過渡區的透明石英層的厚度為圓柱周壁的透明石英層厚度的1.2-1.6倍。

2.根據權利要求1所述的石英坩堝，其特征在于，所述不透明石英層的氣泡含有率為0.6％-3.0％。

3.根據權利要求2所述的石英坩堝，其特征在于，所述不透明石英層的氣泡含有率為1.0％-3.0％。

4.根據權利要求1或2所述的石英坩堝，其特征在于，透明石英層的厚度為坩堝壁厚的15％-35％，不透明石英層的厚度為坩堝壁厚的65％-85％。

5.根據權利要求4所述的石英坩堝，其特征在于，在弧度過渡區，透明石英層的厚度為坩堝壁厚的25％-35％，不透明石英層的厚度為坩堝壁厚的65％-75％。