[發明專利]一種高壓流量計在審
| 申請號: | 201510909302.5 | 申請日: | 2015-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN105371912A | 公開(公告)日: | 2016-03-02 |
| 發明(設計)人: | 吳生東;吳生偉 | 申請(專利權)人: | 重慶聯大儀表有限公司 |
| 主分類號: | G01F15/00 | 分類號: | G01F15/00;G01F15/10 |
| 代理公司: | 重慶中之信知識產權代理事務所(普通合伙) 50213 | 代理人: | 張景根 |
| 地址: | 401120 重慶市渝北區*** | 國省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高壓 流量計 | ||
技術領域
本發明涉及流量計,特別是指一種高壓流量計。
背景技術
計量是工業生產的眼睛。流量計量是計量科學技術的組成部分之一,它與國民經濟、國防建設、科學研究有密切的關系。做好這一工作,對保證產品質量、提高生產效率、促進科學技術的發展都具有重要的作用,特別是在能源危機、工業生產自動化程度愈來愈高的當今時代,流量計在國民經濟中的地位與作用更加明顯。
目前,市場上使用在高壓力條件下的儀表比較少,并且測量精度不高、穩定性差,高壓流量計在測量時,剛開閥門的時候,慣性沖擊力非常大,容易沖擊靶片,導致傳感器損壞。同時,現有的流量計中變徑環的位置固定無法改變,造成小流量無法計量。另外,高壓流量計的連接部分密封性差,容易出現漏、跑、滴現象,安全隱患高。
發明內容
本發明提出一種高壓流量計,解決了現有技術中高壓流量計慣性沖擊大容易損壞傳感器、小流量無法計量及連接處密封性差的技術問題。
本發明的技術方案是這樣實現的:一種高壓流量計,包括測量管及通過連接基座與其連接的積算儀表,所述連接基座與測量管的連接處雙密封;還包括位于連接基座內的傳感器,所述傳感器的靶桿延伸至測量管內,所述靶桿的下端連接有靶片,所述測量管為一體成型的倒T形結構,所述測量管的兩端同軸加工有環形腔,所述環形腔內同軸安裝有臺階狀的連接頭,所述連接頭與測量管的連接處雙密封;所述連接頭內同軸開有階梯孔,所述連接頭通過階梯孔連接有與其匹配的法蘭,所述法蘭與連接頭的連接處雙密封,其中,介質進入端的所述法蘭內開有凹槽,所述凹槽內通過卡簧固定有緩沖器,所述測量管介質引流端設置有位置可調節的變徑環,所述變徑環位于靶桿與連接頭之間;所述變徑環的一端置于連接頭內,另一端與靶片抵觸。
其中,所述靶片的引流面為內凹弧面,順流面呈錐體狀,該錐體的外側面均為內凹弧面。
具體地,所述雙密封均采用密封槽和螺紋密封。
進一步地,所述連接基座由304不銹鋼材料制成。
進一步地,所述密封槽內設有與其匹配的O型密封圈。
與現有技術相比,本發明的有益效果為:所述法蘭內緩沖器的設置,減緩了介質對靶片的沖擊,起到保護傳感器的作用,提高了流量計的使用壽命。位置可調節的變徑環,實現了小流量介質的計量,同時避免了變徑環位置固定無法移動的困難。雙密封結構的設置,使流量計的密封性更好,雙重密封,不易出現漏、跑、滴現象,安全性高。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動性的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發明的結構示意圖;
圖2為圖1中測量管的結構示意圖;
圖3為圖1中法蘭的結構示意圖;
圖4為圖1中連接頭的結構示意圖;
圖5為圖1中緩沖器的結構示意圖。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。
參見圖1至圖5,一種高壓流量計,包括測量管1及通過連接基座2與其連接的積算儀表3,所述連接基座2與測量管1的連接處雙密封;還包括位于連接基座2內的傳感器,所述傳感器的靶桿5延伸至測量管1內,所述靶桿5的下端連接有靶片,所述測量管1為一體成型的倒T形結構,所述測量管1的兩端同軸加工有環形腔81,所述環形腔81內同軸安裝有臺階狀的連接頭6,所述連接頭6與測量管1的連接處雙密封;所述連接頭6內同軸開有階梯孔11,所述連接頭6通過階梯孔11連接有與其匹配的法蘭7,所述法蘭7與連接頭6的連接處雙密封,其中,介質進入端的所述法蘭7內開有凹槽13,所述凹槽13內通過卡簧固定有緩沖器,所述測量管1介質引流端設置有位置可調節的變徑環8,所述變徑環8的位置可根據流量來調節具體位置;所述變徑環8位于靶桿5與連接頭6之間;所述變徑環8的一端置于連接頭6內,另一端與靶片抵觸。
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