[發明專利]氫氣自動供應集成控制系統

有效

• 申請號: 201510897134.2
• 申請日: 2015-12-08
• 公開（公告）號: CN105350014B
• 公開（公告）日: 2018-05-18
• 發明（設計）人: 金龍;朱普林;譚衛東
• 申請（專利權）人: 南京國盛電子有限公司
• 主分類號: C25B1/04
• 分類號: C25B1/04;C25B9/00
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 陳靜

1.一種應用于半導體外延工藝的氫氣自動供應集成控制系統，其特征在于，包括制氫設備、一級純化設備、緩沖罐、二級純化設備、氫氣壓縮機、匯流排鋼瓶組和減壓穩流裝置，所述制氫設備產出的氫氣經一級純化設備進入緩沖罐，再經二級純化設備輸出；制氫設備產出的多余氫氣經一級純化設備進入氫氣壓縮機，經氫氣壓縮機壓縮后儲存至匯流排鋼瓶組；匯流排鋼瓶組中儲存的氫氣經減壓穩流裝置的減壓后進入緩沖罐，再經二級純化設備輸出；

還包括氫氣壓力控制系統，所述氫氣壓力控制系統包括上位機和多個控制單元，每個控制單元分別與上位機相連，所述控制單元包括壓力變送器和氣動閥，一級純化設備與緩沖罐之間、一級純化設備與氫氣壓縮機之間以及減壓穩流裝置與緩沖罐之間均設有控制單元。

2.根據權利要求1所述的氫氣自動供應集成控制系統，其特征在于，上位機中預設每個氣動閥聯動的壓力數值，各壓力變送器將收集到的實時氫氣壓力參數傳輸至上位機，上位機根據實時氫氣壓力參數控制各氣動閥的開閉。

3.根據權利要求1所述的氫氣自動供應集成控制系統，其特征在于，所述制氫設備為水電解槽。