[發明專利]電光相位調制器及調制方法在審
| 申請號: | 201510859491.X | 申請日: | 2015-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN105527733A | 公開(公告)日: | 2016-04-27 |
| 發明(設計)人: | H·波爾特;N·格羅薩德 | 申請(專利權)人: | 埃艾克斯布魯公司 |
| 主分類號: | G02F1/035 | 分類號: | G02F1/035 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 姜利芳;楊曉光 |
| 地址: | 法國圣日*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電光 相位 調制器 調制 方法 | ||
1.一種電光相位調制器(100),旨在調制入射到所述調制器(100) 上的光波(1)的光學相位,包括:
-電光基板(110),其包含入射面(111)和出射面(112),
-光波導(120),其從位于所述基板(110)的所述入射面(111)上 的波導入射端(121)到位于所述基板(110)的所述出射面(112)上的波 導出射端(122)是連續直線,所述光波導(120)具有比所述基板(110) 的光學折射率(ns)高的光學折射率(ng),且被適配于將部分地耦合到 所述光波導(120)中的所述入射光波(1)引導成沿著在所述波導入射端 (121)和出射端(122)之間的所述光波導(120)的光路傳播的引導光波 (3),以及
-至少兩個調制電極(131、132),其平行于所述波導(120)布置, 以便,當調制電壓(Vm(t))被施加于所述調制電極(131、132)之間時, 在在所述光波導(120)中傳播的所述引導光波(3)上引入調制相移,所 述調制相移是所述調制電壓(Vm(t))的函數,
其特征在于,所述調制器包括用于所述電光基板(110)的電極化的裝 置(131、132;141、142、151、152),其適配于在所述電光基板(110) 中產生能減少在所述波導(120)附近的所述電光基板(110)的光學折射 率(ns)的永久電場。
2.根據權利要求1所述的電光相位調制器(100),其中所述電極化 裝置包括所述至少兩個調制電極(131、132),當除了所述調制電壓(Vm(t)) 之外的額外的極化電壓(Vs)被施加于所述調制電極(131、132)之間時, 所述至少兩個調制電極(131、132)易于產生所述永久電場。
3.根據權利要求1所述的電光相位調制器(100),其中所述電極化 裝置包括與所述調制電極(131、132)不同且平行于所述波導(120)被布 置于所述波導入射端(121)或所述波導出射端(122)和所述調制電極(131、 132)之間的至少兩個額外的電極(141、142),所述至少兩個額外的電極 (141、142)易于被極化電壓(Vs)極化以產生所述永久電場。
4.根據權利要求3所述的電光相位調制器(100),其中所述至少兩 個額外的電極(141、142)被布置于所述波導入射端(121)和所述調制電 極(131、132)之間,所述電極化裝置還包括與所述調制電極(131、132) 不同且平行于所述波導(120)被布置于所述波導出射端(122)和所述調 制電極(131、132)之間的至少兩個另外的額外的電極(151、152),所 述至少兩個另外的額外的電極(151、152)易于被另一個極化電壓(Vs’) 極化以在所述電光基板(110)中產生另一個永久電場,其適配于減小在所 述波導(120)附近的所述電光基板(110)的光學折射率(ns)。
5.根據權利要求1所述的電光相位調制器(100),還包括用于將所 述入射光波(1)耦合到所述波導入射端(121)的裝置(10)和/或用于將 所述引導光波(3)耦合到所述波導出射端(122)的裝置(20),所述耦 合裝置優選包含光纖段。
6.根據權利要求1所述的電光相位調制器(100),其中所述電光基 板(110)是平面的幾何形狀,具有兩個側面(115、116)、下表面(114) 和上表面(113),所述下表面(114)和上表面(113)在所述基板(110) 的所述入射面(111)和所述出射面(112)之間延伸,且所述光波導(120) 在平行且靠近于所述上表面(113)的平面中延伸。
7.根據權利要求1所述的電光相位調制器(100),其中所述電光基 板(110)是由鈮酸鋰、鉭酸鋰、聚合物材料、半導體材料,例如硅、磷化 銦、或砷化鎵,制得的基板。
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