[發明專利]圖案化光致抗蝕劑的去除有效
| 申請號： | 201510859346.1 | 申請日： | 2015-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN106168739B | 公開（公告）日： | 2020-04-24 |
| 發明（設計）人： | 鄭雅玲;張慶裕;陳建志 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42;H01L21/311 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人： | 路勇 |
| 地址： | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 圖案 化光致抗蝕劑 去除 | ||
【權利要求書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于臺灣積體電路制造股份有限公司，未經臺灣積體電路制造股份有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510859346.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：光學投影陣列曝光系統
- 下一篇：靜電圖像顯影色調劑、靜電圖像顯影劑和色調劑盒
