[發明專利]支撐單元和包括其的基板處理裝置

有效

• 申請號: 201510849322.8
• 申請日: 2015-11-27
• 公開（公告）號: CN105655222B
• 公開（公告）日: 2018-01-16
• 發明（設計）人: 金泳俊;李元行
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所11410
• 代理人: 石寶忠

1.一種基板處理裝置，包括：

處理室，其內具有處理空間；

支撐單元，置于處理室內并支撐基板；

氣體供給單元，將處理氣體供給到處理室內；

等離子體源，使用處理氣體產生等離子體；以及

內襯單元，與所述處理室的內側壁或所述處理室內的所述支撐單元鄰近或接觸，

其中，所述支撐單元包括：

上板，在其上放置基板，所述上板的上表面由非導電材料形成；

電極板，放置在上板下方并由導電材料形成；和

下板，放置在電極板下方并具有環狀，并且

其中在下板中提供冷卻構件，所述冷卻構件包括形成在下板中的下流道，冷卻流體流過所述下流道，且在所述電極板中包括上流道，用于冷卻上板的冷卻流體流過所述上流道。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，進一步包括：

加熱處理室的壁的加熱器。

3.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，所述上板在其中包括靜電電極，所述靜電電極使用靜電力吸引基板。

4.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，所述內襯單元包括：

內側內襯，形成為圍繞所述上板，所述電極板和所述下板中的一個，一部分或全部；和

外側內襯，置于處理室內并形成為環狀。

5.一種用于支撐基板的支撐單元，所述支撐單元包括：

上板，在其上放置基板，所述上板的上表面由非導電材料形成；

電極板，放置在所述上板下方并由導電材料形成；和

下板，放置在所述電極板下方并具有環狀，

其中在所述下板中提供冷卻構件，所述冷卻構件包括形成在所述下板中的下流道，冷卻流體流過所述下流道，且在所述電極板中包括上流道，用于冷卻所述上板的冷卻流體流過所述上流道。

6.根據權利要求5所述的支撐單元，其中，在所述上板中形成有用于使用靜電力吸引基板的靜電電極。