[發(fā)明專利]一種用于強散射源診斷的射線關(guān)聯(lián)分析方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510849233.3
• 申請日: 2015-11-27
• 公開（公告）號: CN105334501B
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發(fā)明（設計）人: 侯兆國;閆華;李煥敏;陳勇;王超
• 申請（專利權(quán)）人: 北京環(huán)境特性研究所
• 主分類號: G01S7/02
• 分類號: G01S7/02
• 代理公司: 北京格允知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609
• 代理人: 周嬌嬌

公開了一種用于強散射源診斷的射線關(guān)聯(lián)分析方法，包括：根據(jù)目標中待分析區(qū)域的位置或散射源強度信息，從操作列表中選擇一個散射源作為分析對象；從彈跳路徑數(shù)據(jù)中獲取經(jīng)過分析對象的所有射線，形成射線子列表；沿著射線子列表中的每一條射線查找與分析對象關(guān)聯(lián)的所有面元，形成面元子列表。本發(fā)明通過從彈跳路徑數(shù)據(jù)中獲取經(jīng)過分析對象的所有射線形成射線子列表、并沿著射線子列表中的每一條射線查找與分析對象關(guān)聯(lián)的所有面元，能夠分析散射源的構(gòu)成，從而獲得散射源的形成機制，為目標的隱身設計提供理論指導。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及雷達目標特性技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于強散射源診斷的射線關(guān)聯(lián)分析方法。

背景技術(shù)

以下對本發(fā)明的相關(guān)技術(shù)背景進行說明，但這些說明并不一定構(gòu)成本發(fā)明的現(xiàn)有技術(shù)。

目標的電磁散射特性由其自身的形狀、結(jié)構(gòu)和材料確定，不同的結(jié)構(gòu)形狀能產(chǎn)生不同量級的散射能量貢獻，在隱身設計等特征控制應用領(lǐng)域，希望準確找出強散射源的位置，理解其形成機制并采取必要的措施將其抑制。為此，已經(jīng)發(fā)展了一系列強散射源分析方法，如散射熱點圖、三維散射中心分布等。然而，這些方法給出了強散射源的位置、強度信息，但未能說明這些強散射源由目標的哪些部位共同作用而成，在隱身設計等應用過程中難以給出具體的優(yōu)化指導。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提出一種用于強散射源診斷的射線關(guān)聯(lián)分析方法，能夠分析散射源的構(gòu)成，從而獲得散射源的形成機制，為目標的隱身設計提供理論指導。

根據(jù)本發(fā)明的用于強散射源診斷的射線關(guān)聯(lián)分析方法，包括：

S1、根據(jù)目標中待分析區(qū)域的位置或散射源強度信息，從操作列表中選擇一個散射源作為分析對象；

S2、從彈跳路徑數(shù)據(jù)中獲取經(jīng)過所述分析對象的所有射線，形成射線子列表；

S3、沿著射線子列表中的每一條射線查找與所述分析對象關(guān)聯(lián)的所有面元，形成面元子列表；

其中，所述操作列表中包括至少一個散射源，以及與每一個散射源對應的散射源位置和散射源強度；所述彈跳路徑數(shù)據(jù)包括目標表面的所有射線以及每一條射線的彈跳路徑；面元指目標表面離散形成的網(wǎng)格單元。

優(yōu)選地，步驟S1之前進一步包括：

遍歷目標中的所有散射源，獲取每一個所述散射源的散射源位置和散射源強度，形成操作列表；

遍歷目標表面的所有射線，獲取每一條所述射線的彈跳路徑，形成彈跳路徑數(shù)據(jù)。

優(yōu)選地，步驟S1之前進一步包括：

遍歷目標中的所有散射源，獲取每一個所述散射源的散射源位置和散射源強度；將散射源強度大于預設的截斷閾值的散射源、以及對應的散射源位置和散射源強度聚合，形成操作列表；

遍歷目標表面的所有射線，獲取每一條所述射線的彈跳路徑，形成彈跳路徑數(shù)據(jù)。

優(yōu)選地，步驟S1包括：

從操作列表中選擇散射源強度最大的散射源作為分析對象。

優(yōu)選地，步驟S3之后進一步包括：S4、在目標的視圖中繪制出所述射線子列表中的每一條射線、以及面元子列表中的每一個面元。

優(yōu)選地，步驟S4包括：

在目標的視圖中繪制出所述射線子列表中的每一條射線，并以高亮的方式標示出面元子列表中的每一個面元。

優(yōu)選地，所述散射源包括：熱點和/或散射中心。

優(yōu)選地，所述熱點的散射源強度滿足如下關(guān)系：