[發明專利]一種衡量天線罩對天線陣列測向性能影響的方法

在審

• 申請號: 201510848280.6
• 申請日: 2015-11-27
• 公開（公告）號: CN105388449A
• 公開（公告）日: 2016-03-09
• 發明（設計）人: 曹群生;眭韻;王毅;李高生;明永晉;李豪
• 申請（專利權）人: 南京航空航天大學
• 主分類號: G01S3/02
• 分類號: G01S3/02;G01S3/48
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 朱小兵

1.一種衡量天線罩對天線陣列測向性能影響的方法，其特征在于，通過與測向性能具有正相關系的帶天線罩天線陣列系統中兩兩天線的相位不一致性，來衡量天線罩影響內部天線陣列測向精度，具體為：

步驟1，確定天線工作頻率、各個天線口面場數據、天線陣列位置坐標、各天線水平及俯仰角度；

步驟2，建立天線罩結構的幾何模型，設置各層厚度及介電常數，并對天線罩模型進行網格剖分；

步驟3，確定天線罩外遠區場的觀察位置，掃描角范圍及掃描步長；

步驟4，利用遠場積分公式，計算天線陣列中各天線在罩外遠區場產生的電場幅值和相位；

步驟5，對天線陣列中任意天線，計算其帶罩遠區場電場相位和不帶罩遠區場電場相位的差值，作為該天線的插入相位移；

步驟6，對天線陣列中任意兩天線，計算兩者插入相位移的差值，作為該兩天線的相位誤差；

步驟7，根據步驟6中得到的相位誤差，計算相位誤差的平均值；對天線陣列中任意兩天線，該兩天線的相位誤差與相位誤差平均值的差值，即為帶天線罩的天線陣列系統中兩兩天線的相位不一致性，從而以此衡量系統的測向精度。

2.根據權利要求1所述的一種衡量天線罩對天線陣列測向性能影響的方法，其特征在于，步驟3中天線罩外遠區場，距開口面處的距離為r，其中，r>D²/λ，D為天線口面直徑，λ為工作波長。

3.根據權利要求1所述的一種衡量天線罩對天線陣列測向性能影響的方法，其特征在于，步驟1中確定天線口面場數據有兩種方式：一種采用電磁仿真軟件進行計算，另一種采用天線輻射公式直接進行口面場數據計算。

4.根據權利要求1所述的一種衡量天線罩對天線陣列測向性能影響的方法，其特征在于，步驟2中使用CATIA軟件建立天線罩結構的幾何模型，并使用PATRAN軟件對模型進行網格剖分。

5.根據權利要求1所述的一種衡量天線罩對天線陣列測向性能影響的方法，其特征在于，利用口面積分-表面積分方法計算天線陣列中各天線在罩外遠區場產生的電場幅值和相位。