[發(fā)明專利]一種厭氧氨氧化菌的富集裝置及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510848123.5
• 申請日: 2015-11-27
• 公開（公告）號: CN105273985A
• 公開（公告）日: 2016-01-27
• 發(fā)明（設計）人: 張金松;王越興
• 申請（專利權）人: 深圳市水務(集團)有限公司
• 主分類號: C12M1/00
• 分類號: C12M1/00;C12N1/36
• 代理公司: 深圳市科吉華烽知識產(chǎn)權事務所(普通合伙) 44248
• 代理人: 孫偉

1.一種厭氧氨氧化菌的富集裝置，其特征在于：包括裝置本體，所述裝置本體的上部設有填料層，所述填料層的下方為厭氧氨氧化菌的富集區(qū)，所述厭氧氨氧化菌的富集區(qū)設有加熱裝置；所述裝置本體的下部設有進水管，所述進水管與水箱連接；所述裝置本體在填料層或填料層以下設有回流出水管，所述回流出水管與進水管連接，所述裝置本體在回流出水管的上方設有排水管。

2.根據(jù)權利要求1所述的厭氧氨氧化菌的富集裝置，其特征在于：所述加熱裝置為加熱棒，所述加熱棒從裝置本體的頂部向下穿過填料層。

3.根據(jù)權利要求2所述的厭氧氨氧化菌的富集裝置，其特征在于：所述進水管設在所述裝置本體的底部。

4.根據(jù)權利要求3所述的厭氧氨氧化菌的富集裝置，其特征在于：所述填料層的高度為所述裝置本體高度的1/4~1/3。

5.根據(jù)權利要求4所述的厭氧氨氧化菌的富集裝置，其特征在于：所述裝置本體為圓筒形，所述裝置本體的頂部開口，所述裝置本體的下部為漏斗形。

6.根據(jù)權利要求5所述的厭氧氨氧化菌的富集裝置，其特征在于：所述裝置本體的圓筒直徑為10cm，所述裝置本體的高度為90cm，所述填料層的高度為30cm，所述填料層頂部與裝置本體的頂部的距離為2~4cm。

7.根據(jù)權利要求1~6任意一項所述的厭氧氨氧化菌的富集裝置，其特征在于：所述加熱裝置的加熱溫度為30~45℃，所述裝置本體的材質為有機玻璃。

8.一種厭氧氨氧化菌的富集方法，其特征在于：采用如權利要求1~7任意一項所述的厭氧氨氧化菌的富集裝置，包括以下步驟：

步驟S1：在所述厭氧氨氧化菌的富集裝置內(nèi)放入?yún)捬趸钚晕勰嗪蜖I養(yǎng)液，兩者混合，使厭氧氨氧化菌增殖；在填料層填放軟性填料；

步驟S2：向所述水箱內(nèi)加入營養(yǎng)液，開啟所述加熱裝置，使反應器逐步穩(wěn)定運行；

步驟S3：檢測所述排水管出水的氨氮、亞硝酸氮及硝酸氮的濃度變化，當出水的亞硝酸氮濃度低于20mg/L時，提高進水的氨氮及亞硝酸氮濃度，使進水的氨氮、亞硝酸氮的比例為1：1.1~1.3；

步驟S4：培養(yǎng)100~170天后，所述厭氧氨氧化菌的富集裝置的底部富集得到沉降的顆粒厭氧氨氧化污泥。

9.根據(jù)權利要求8所述的厭氧氨氧化菌的富集方法，其特征在于：所述營養(yǎng)液中包含NH₄⁺-N和NO₂^--N，所述NH₄⁺-N和NO₂^--N的比例為1:1.1~1.5，所述營養(yǎng)液的pH值為7.5~8.2，所述NH₄⁺-N和NO₂^--N的容積負荷分別為0.05~0.9kgNH₄⁺-N/（m³·d）、0.06~1.0kgNO₂^--N/（m³·d）。

10.根據(jù)權利要求9所述的厭氧氨氧化菌的富集方法，其特征在于：步驟S3中，提高進水的氨氮及亞硝酸氮濃度時，氨氮濃度每次提升50mg/L。