[發(fā)明專利]硬質合金涂層刀具的后處理方法和硬質合金涂層刀具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510828375.1 | 申請日: | 2015-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN105479318B | 公開(公告)日: | 2018-05-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 史海東;鐘志強;邱聯(lián)昌;傅聲華;楊倫旺;江林 | 申請(專利權)人: | 贛州澳克泰工具技術有限公司 |
| 主分類號: | B24B29/02 | 分類號: | B24B29/02;B24B29/00;B24B41/06;B24B1/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黃德海 |
| 地址: | 341000 江西省*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硬質合金 涂層 刀具 處理 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種硬質合金涂層刀具的后處理方法和硬質合金涂層刀具,所述硬質合金涂層刀具的后處理方法為采用拋光工藝對所述硬質合金涂層刀具的表面涂層和/或刃口涂層進行拋光處理。根據(jù)本發(fā)明的硬質合金涂層刀具的后處理方法,可以降低涂層應力,消除硬質合金涂層刀具表面及刃口處的涂層熱裂紋,提高排屑效果,減小了硬質合金涂層刀具與工件間的摩擦力,提高使用壽命,提高加工精度和表面光潔度。同時,該后處理方法的處理時間短,加工方便,適用性能強,便于批量生產(chǎn)。
技術領域
本發(fā)明涉及金屬加工領域,尤其是涉及一種硬質合金涂層刀具的后處理方法和硬質合金涂層刀具。
背景技術
目前,金屬加工行業(yè)對生成成本和產(chǎn)品質量要求越來越高,而硬質合金刀具經(jīng)CVD(化學相沉積)涂層后存在熱裂紋、內應力的現(xiàn)象,PVD(物理相沉積)涂層存在熔滴的現(xiàn)象,這些現(xiàn)象導致刀具的表面光潔度差,工作過程中切削阻力大,排屑效果不好,涂層更易磨損失效,使得加工件表面起毛刺的,降低加工件的合格率。
相關技術中通過采用濕噴砂的方式對硬質合金涂層刀具進行后處理,以改善刀具的表面性能,得到光潔的表面,但通過濕噴砂處理要獲得鏡面刀具需要很長的加工時間且難以保證獲得鏡面效果。相關技術中也有在硬質合金涂層刀具上制備Ra<1.0μm的氧化鋁涂層,然后采用濕噴砂制備閃亮外觀,但該技術不適用于PVD等其他涂層的后處理。
發(fā)明內容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術中存在的技術問題之一。為此,本發(fā)明在于提出一種硬質合金涂層刀具的后處理方法,采用所述后處理方法加工的硬質合金刀具表面光潔度高,加工時間短,使用壽命長。
本發(fā)明還提出了一種硬質合金涂層刀具,采用上述后處理方法進行后處理。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面的硬質合金涂層刀具的后處理方法,所述后處理方法為采用拋光工藝對所述硬質合金涂層刀具的表面涂層和/或刃口涂層進行拋光處理。
根據(jù)本發(fā)明的硬質合金涂層刀具的后處理方法,可以降低涂層應力,消除硬質合金涂層刀具表面及刃口處的涂層熱裂紋,提高排屑效果,減小了硬質合金涂層刀具與工件間的摩擦力,提高使用壽命,提高加工精度和表面光潔度。同時,該后處理方法的處理時間短,加工方便,適用性能強,便于批量生產(chǎn)。
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例,采用拋光裝置實現(xiàn)所述拋光工藝,所述拋光裝置包括相對距離可調節(jié)的拋光模座和拋光介質,所述拋光介質可自轉地設在所述拋光模座的上方,所述拋光模座包括可自轉的底座和至少一個基底,每個所述基底均可自轉地設在所述底座上,所述后處理方法包括以下步驟:將所述硬質合金涂層刀具放在所述底座上且由所述基底定位;根據(jù)所述硬質合金涂層刀具的上表面位置對所述拋光介質進行校零;設置所述底座的自轉速度N1、所述拋光介質的自轉速度N2、以及所述拋光介質的進給量X。
在本發(fā)明的一個實施例中,將所述硬質合金涂層刀具放在所述底座上且由所述基底定位的同時使所述硬質合金涂層刀具的上表面高于所述基底的上表面。
在本發(fā)明的一個實施例中,所述硬質合金涂層刀具的上表面與所述基底的上表面的高度差h滿足關系:0mm≤h≤2mm。
在本發(fā)明的一個實施例中,所述基底上形成有與所述硬質合金涂層刀具形狀相適配的定位孔,所述硬質合金涂層刀具配合在所述定位孔內以由所述定位孔定位。
在本發(fā)明的一個實施例中,所述硬質合金涂層刀具與所述定位孔的孔壁之間的間隙δ滿足關系:0mm≤δ≤0.5mm。
在本發(fā)明的一個實施例中,所述拋光介質的自轉方向與所述底座的自轉方向相反。
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例,所述底座的自轉速度N1滿足關系:5rpm≤N1≤30rpm。
在本發(fā)明的一些實施例中,所述拋光介質的自轉速度N2滿足關系:80rpm≤N2≤600rpm。
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