[發(fā)明專利]多序列激光陰影照相系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510801312.7 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105739219B | 公開(公告)日: | 2019-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 謝愛民;宋強(qiáng);柯發(fā)偉;黃潔;姜林;鄭蕾;柳森 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國空氣動(dòng)力研究與發(fā)展中心超高速空氣動(dòng)力研究所 |
| 主分類號(hào): | G03B15/05 | 分類號(hào): | G03B15/05;G03B39/00 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 李東斌 |
| 地址: | 621000 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 序列 激光 陰影 照相 系統(tǒng) 中的 平行 透射 成像 裝置 | ||
本發(fā)明屬于超高速瞬態(tài)成像領(lǐng)域,涉及一種多序列激光陰影照相系統(tǒng),包括順次連接的光源系統(tǒng)(2)、平行光透射成像裝置(1)、成像系統(tǒng)(4)和數(shù)據(jù)采集與處理系統(tǒng)(5);其特征在于,光源系統(tǒng)(2)的出口光束位于第一透鏡(6)和第二透鏡(7)組合準(zhǔn)直透鏡的焦距位置,成像系統(tǒng)(4)的入口位于第三透鏡(9)和第四透鏡(10)組合成像透鏡后的焦距位置;所述平行光透射成像裝置包括第一透鏡(6)和第二透鏡(7)組成準(zhǔn)直透鏡、第三透鏡(9)和第四透鏡(10)組成成像透鏡,第一透鏡(6)材料為BK7,其折射率為1.580,阿貝常數(shù)為64.169998;第二透鏡(7)材料為SF1,其折射率為1.71736,阿貝常數(shù)為29.51;第一透鏡(6)中心厚度為12.0mm,兩個(gè)面都為凸面,曲率分別為2455.15mm、766.66mm;第二透鏡(7)中心厚度為12.0mm,兩個(gè)面分別為凹面和凸面,曲率分別為?766.66mm、1373.30mm;準(zhǔn)直透鏡的焦距為1000mm,通光口徑為100mm,表面鍍532nm波長的激增透膜。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于超高速瞬態(tài)成像領(lǐng)域,涉及一種多序列激光陰影照相系統(tǒng)。
背景技術(shù)
隨著我國航天技術(shù)、武器裝備和基礎(chǔ)學(xué)科的發(fā)展,涉及超高速空氣動(dòng)力學(xué)、超高速碰撞、爆炸與沖擊、燃燒與化學(xué)反應(yīng)等領(lǐng)域的研究不斷深入。在這些研究工作中,許多現(xiàn)象是持續(xù)時(shí)間僅為微秒甚至納秒級(jí)的超高速瞬態(tài)變化過程,需要有一種照相系統(tǒng)能夠?qū)@一過程進(jìn)行清晰、連續(xù)地成像記錄,以便掌握物理現(xiàn)象的本質(zhì)。這種照相系統(tǒng)除了幅頻要求達(dá)到1000萬幅/秒(即曝光成像時(shí)間最短100ns),能夠?qū)Τ咚偎矐B(tài)變化過程進(jìn)行序列成像外,還必須確保每幅圖像的分辨率足夠高,曝光時(shí)間足夠短,從而提高成像清晰度,減小超高速運(yùn)動(dòng)引起圖像的模糊失真。
目前國內(nèi)只有中科院西安光機(jī)所、深圳大學(xué)能生產(chǎn)序列數(shù)量大于8個(gè)、曝光成像時(shí)間大于200納秒的轉(zhuǎn)鏡式分幅膠片成像系統(tǒng),由于采用機(jī)械旋轉(zhuǎn)的方式,每幅圖像的曝光時(shí)間難以小于100ns。國內(nèi)數(shù)字式序列成像系統(tǒng)在研制和生產(chǎn)上還不成熟,難以滿足工程化的需要。國外序列數(shù)量大于8個(gè),曝光時(shí)間小于100ns的超高速數(shù)字成像系統(tǒng)技術(shù)比較成熟,通常采用昂貴的納秒級(jí)光電快門實(shí)現(xiàn)序列成像,但這類高端產(chǎn)品對(duì)我國實(shí)行禁運(yùn)和技術(shù)封鎖。
為了滿足超高速目標(biāo)變化過程多序列成像,發(fā)展了多序列激光陰影照相系統(tǒng),該照相系統(tǒng)是利用多激光光源光束在不同空間位置及偏折原理進(jìn)行分光,實(shí)現(xiàn)多束光進(jìn)行重合或分離以對(duì)同一目標(biāo)單獨(dú)成像。多序列激光陰影照相系統(tǒng)主要包括光源系統(tǒng)、平行光透射成像裝置、成像系統(tǒng)及數(shù)據(jù)采集與處理系統(tǒng)。
為了滿足超高速目標(biāo)變化過程多序列成像,國內(nèi)需要自行發(fā)展曝光時(shí)間小于100ns的多序列照相系統(tǒng)。目前國外多序列照相是直接對(duì)測(cè)試區(qū)域進(jìn)行成像(即前光成像),成像時(shí)感光介質(zhì)接收測(cè)試區(qū)域的反射光,并通過微通道板技術(shù)把不同時(shí)刻的成像圖像進(jìn)行分開。但因?yàn)閲鴥?nèi)未掌握微通道板分光成像技術(shù),則難以實(shí)現(xiàn)把不同時(shí)刻的成像圖像進(jìn)行分開。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種把不同時(shí)刻成像圖像分開的平行光透射成像裝置。
為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明提供一種多序列激光陰影照相系統(tǒng)。
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