[發(fā)明專利]電解清洗裝置和電解清洗裝置的控制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510801059.5
• 申請(qǐng)日: 2015-11-19
• 公開（公告）號(hào): CN106757295B
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山本正治;中島博文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日鐵工程技術(shù)株式會(huì)社;日鐵機(jī)械設(shè)備設(shè)計(jì)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C25F1/00
• 分類號(hào): C25F1/00;C25F7/00
• 代理公司: 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258
• 代理人: 張永玉

1.一種電解清洗裝置，所述電解清洗裝置是對(duì)連續(xù)運(yùn)送的帶鋼進(jìn)行清洗的電解清洗裝置，其特征在于，具有：

立式罐，所述立式罐儲(chǔ)存浸泡所述帶鋼的電解液，并容納用于使所述電解液電解的電極板；

液量調(diào)節(jié)單元，所述液量調(diào)節(jié)單元進(jìn)行所述電解液向所述立式罐的外部的排出和向所述立式罐的所述電解液的供應(yīng)，由此調(diào)節(jié)所述立式罐內(nèi)的所述電解液的量；以及

控制裝置，所述控制裝置根據(jù)所述電解液中的所述帶鋼的運(yùn)送阻力，以在所述運(yùn)送阻力上升時(shí)所述立式罐內(nèi)的所述電解液的量減少從而所述電解液的液面下降、且在所述運(yùn)送阻力下降時(shí)所述立式罐內(nèi)的所述電解液的量增加從而所述液面上升的方式控制所述液量調(diào)節(jié)單元的動(dòng)作。

2.如權(quán)利要求1所述的電解清洗裝置，其特征在于，所述控制裝置基于通過所述立式罐之后的所述帶鋼的張力和被向所述立式罐引導(dǎo)的所述帶鋼的張力，計(jì)算出所述運(yùn)送阻力。

3.如權(quán)利要求2所述的電解清洗裝置，其特征在于，

所述控制裝置

以在所述運(yùn)送阻力比基準(zhǔn)阻力高時(shí)根據(jù)所述運(yùn)送阻力來改變所述液面、

且在所述運(yùn)送阻力低于或等于所述基準(zhǔn)阻力時(shí)將所述液面維持在所述電極板的整體被浸泡在所述電解液中的液面處的方式控制所述液量調(diào)節(jié)單元的動(dòng)作。

4.如權(quán)利要求1所述的電解清洗裝置，其特征在于，具有速度計(jì)，所述速度計(jì)檢測(cè)所述帶鋼的運(yùn)送速度，當(dāng)所述帶鋼的運(yùn)送速度越高時(shí)，所述帶鋼的運(yùn)送阻力越高，

所述控制裝置以使所述液面與所述運(yùn)送速度的上升對(duì)應(yīng)地下降、且與所述運(yùn)送速度的下降對(duì)應(yīng)地上升的方式控制所述液量調(diào)節(jié)單元的動(dòng)作。

5.如權(quán)利要求4所述的電解清洗裝置，其特征在于，

所述控制裝置

以在所述運(yùn)送速度比基準(zhǔn)運(yùn)送速度高時(shí)根據(jù)所述運(yùn)送速度來改變所述液面、

且在所述運(yùn)送速度低于或等于所述基準(zhǔn)運(yùn)送速度時(shí)將所述液面維持在所述電極板的整體被浸泡在所述電解液中的液面處的方式控制所述液量調(diào)節(jié)單元的動(dòng)作。

6.如權(quán)利要求1、4或5中任一項(xiàng)所述的電解清洗裝置，其特征在于，

當(dāng)所述帶鋼的寬度越大時(shí)，所述帶鋼的運(yùn)送阻力越高，

所述控制裝置以在所述帶鋼的寬度越大時(shí)越使所述液面下降，且在所述寬度越小時(shí)越使所述液面上升的方式控制所述液量調(diào)節(jié)單元的動(dòng)作。

7.如權(quán)利要求1所述的電解清洗裝置，其特征在于，具有：

張緊輥，所述張緊輥調(diào)整通過所述立式罐之后的所述帶鋼的張力；

電動(dòng)機(jī)，所述電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)所述張緊輥；以及

電流傳感器，所述電流傳感器檢測(cè)所述電動(dòng)機(jī)的電流值，

當(dāng)所述帶鋼的運(yùn)送阻力越高時(shí)，所述電流值越大，

所述控制裝置以在所述電流值越大時(shí)越使所述液面下降、且在所述電流值越小時(shí)越使所述液面上升的方式控制所述液量調(diào)節(jié)單元的動(dòng)作。

8.如權(quán)利要求1至5、7中任一項(xiàng)所述的電解清洗裝置，其特征在于，具有液面計(jì)，所述液面計(jì)檢測(cè)所述液面的高度，

所述控制裝置基于所述液面計(jì)的檢測(cè)結(jié)果來監(jiān)視所述液面的高度，以在所述運(yùn)送阻力上升時(shí)使所述液面下降、在在所述運(yùn)送阻力下降時(shí)使所述液面上升的方式控制所述液量調(diào)節(jié)單元的動(dòng)作。

9.如權(quán)利要求1至5、7中任一項(xiàng)所述的電解清洗裝置，其特征在于，

所述液量調(diào)節(jié)單元具有：

循環(huán)罐，所述循環(huán)罐儲(chǔ)存所述電解液；

排出管，所述排出管連接所述立式罐和所述循環(huán)罐，使所述立式罐內(nèi)的所述電解液向所述循環(huán)罐排出；

閥，所述閥被設(shè)置在所述排出管上；

供應(yīng)管，所述供應(yīng)管連接所述立式罐和所述循環(huán)罐，將所述循環(huán)罐內(nèi)的所述電解液向所述立式罐供應(yīng)；以及

泵，所述泵被設(shè)置在所述供應(yīng)管上，將所述循環(huán)罐內(nèi)的所述電解液向所述立式罐送出，

所述控制裝置以控制所述閥的開度來改變所述電解液的排出量，由此改變所述立式罐內(nèi)的所述液面的位置的方式控制所述液量調(diào)節(jié)單元的動(dòng)作。