[發明專利]一種渦旋膨脹機渦旋盤

在審

• 申請號: 201510782121.0
• 申請日: 2015-11-16
• 公開（公告）號: CN105298545A
• 公開（公告）日: 2016-02-03
• 發明（設計）人: 彭斌;朱兵國
• 申請（專利權）人: 蘭州理工大學
• 主分類號: F01C1/02
• 分類號: F01C1/02;F01C21/00
• 代理公司: 蘭州振華專利代理有限責任公司 62102
• 代理人: 董斌

1.一種渦旋膨脹機渦旋盤，其中靜渦旋盤（1）和動渦旋盤（2），其相位角相差180度，上下相扣，動渦旋盤（2）浮動于靜渦旋盤（1）和支架體（5）之間，其特征在于靜渦旋盤（1）的渦旋齒、動渦旋盤（2）的渦旋齒的型線均為圓漸開線、圓弧、直線和圓弧分段首尾連接組成。

2.根據權利要求1所述渦旋膨脹機渦旋盤，其特征在于：包括靜渦旋盤（1）和動渦旋盤（2），靜渦旋盤（1）的渦旋齒中心起始端為第一圓弧（O2），渦旋盤外壁為與渦旋盤中心起始端的圓弧外端點（A）相切并且與向外延伸的漸開線型組成，渦旋盤內壁包括與渦旋盤外壁相平行的漸開線段，漸開線段起始端和第二圓弧（O1）的外端點（D）相切，第一圓弧（O2）的第一內端點（B）和第二圓弧（O1）的第二內端點（C）通過直線段（L）相連，且直線段（L）分別與第二圓弧（O1）的第二內端點（C）以及渦旋盤中心起始端的第一圓弧（O2）的第一內端點（B）相切，然后在保證齒始端強度的前提下，從渦旋齒始端壁厚最大處向渦旋底盤打孔形成渦旋膨脹機的進氣孔；動渦旋盤渦旋齒的形成與靜渦旋盤相同。