[發明專利]弧面刀頭及理發器在審
| 申請號: | 201510750533.6 | 申請日: | 2015-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN105269601A | 公開(公告)日: | 2016-01-27 |
| 發明(設計)人: | 王仁通;虞智勇 | 申請(專利權)人: | 浙江百特電器有限公司 |
| 主分類號: | B26B19/06 | 分類號: | B26B19/06 |
| 代理公司: | 溫州金甌專利事務所(普通合伙) 33237 | 代理人: | 林益建 |
| 地址: | 325006 浙江省溫*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 刀頭 理發 | ||
技術領域
本發明涉及個人護理用品技術領域,具體涉及一種弧面刀頭及理發器。
背景技術
現有的理發剪的刀頭大多數是平面的,在使用時其刀頭位置不能很好的與人臉部貼合,使用不舒適,剪發不干凈。
申請日為2013.03.15,申請號為201310083247.X的中國發明公開了一種內弧形理發刀頭組合,其公開了定刀刃齒邊、動刀刃齒邊、軌道、保護罩的邊緣均形成內凹的弧形,避免理發時對毛皮的損傷,而該技術雖然公開了采用弧形刃齒,但是其刀頭始終采用平面,在使用時還是無法貼合面部,造成理發不干凈。
發明內容
為了解決以上的不足,本發明提供了一種弧面刀頭及理發器。
本發明提供:一種弧面刀頭,其包括刀頭本體,所述刀頭本體上設置動刀和靜刀,所述動刀相對于靜刀橫向運動,所述靜刀包括前尖齒切削刃部以及位于后部的貼合部,所述前尖齒切削刃部和/或貼合部為弧面。
所述靜刀表面向下凹陷形成弧面。
所述靜刀整體折彎形成弧面。
所述動刀折彎形成弧面,且與靜刀貼合。
所述靜刀的前尖齒切削刃部的刃尖部由兩側向內凹陷形成內弧形。
所述動刀的刃尖部由兩側向內凹陷形成內弧形。
一種應用上述弧面刀頭的理發器,其包括理發器本體,所述理發器本體上設有上述弧面刀頭。
本發明將靜刀的貼合面或前尖齒切削刃部或兩者一起設置成弧面,使得在理發時,能夠緊貼面部,能夠使理發更加干凈,提高理發效果。
附圖說明
圖1為實施例1的結構示意圖。
圖2為實施例2的結構示意圖。
圖3為實施例1的靜刀的結構示意圖。
圖4為實施例1的靜刀的主視圖。
圖5為實施例2的靜刀的結構示意圖。
圖6為實施例2的靜刀的主視圖。
圖7為實施例2的動刀的結構示意圖。
圖8為實施例2的動刀的主視圖。
圖9為實施例3的動刀的俯視圖。
圖10為實施例3的靜刀的俯視圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明實施例作進一步說明:
本發明公開了一種弧面刀頭,其包括刀頭本體,所述刀頭本體包括刀架,所述刀架上通過壓簧固定聯動件,所述聯動件上設置動刀2,所述動刀2在聯動件的帶動下,相對于靜刀1橫向往復運動,所述動刀2固定在刀架上方,且與靜刀1緊密貼合,動刀2的橫向往復運動與靜刀1構成剪切動作。
靜刀1包括前尖齒切削刃部12以及位于后部的貼合部11,所述前尖齒切削刃部12和/或貼合部11為弧面。任意一個部位設置成弧面,更好的與面部貼合,提高理發效率,避免靜刀為平面時,不能緊貼面部,造成理發時的缺漏,影響理發效果,即需要對弧面進行理發時,則需要將弧面分成多個相切的平面進行理發,使得理發效果能夠達到適合該弧面的效果。
實施例1:
如圖1、圖3和圖4所示,靜刀表面向下凹陷形成弧面,即靜刀與動刀貼合面為平面,其表面由兩側向內凹陷形成弧面,且該弧面的彎曲度與人頭面部的彎曲度相同,所述貼合部向下傾斜,且由兩側向內凹陷,所述前尖齒切削刃部。
實施例2:
如圖2、圖5、圖6、圖7和圖8所示,所述靜刀整體折彎形成弧面,即整個靜刀呈彎折狀,在貼合面部時,其靜刀面整個貼合,同時將與其緊密貼合的動刀也涉及成弧面,整個弧面的彎曲度與人頭面部的彎曲度相同,且符合人體工程學原理的,在使用時,輕易的對貼合的面部的毛發進行清理,而不需要根據弧度進行不同角度的剪切,提高理發效率。
實施例3:
如圖9和圖10所示,在上述的基礎上,可以將所述靜刀的前尖齒切削刃部的刃尖部由兩側向內凹陷形成內弧形,所述動刀的刃尖部13由兩側向內凹陷形成內弧形。且靜刀的刃尖部和動刀的刃尖部同圓心,且動刀的半徑小于靜刀的半徑,鎖定剪切刃口的深度,優化剪毛效果,及防止動刀的刃尖部超出靜刀,確保不會刮傷皮膚,而且將刃尖部設計成內弧形,而且在與頭皮接觸面為弧面外,刃尖部也同時弧面,滿足頭部弧面三維立體造型,在使用時,刃尖部能沿著與人體表面部分的彎曲度平行的方向移動,在毛發被修剪時,其余留在身體部分上的毛發具有相同的長度,因此形成了整潔的修剪面,而傳統的直形齒狀刀是很難實現這樣的效果的。
任意上述實施例的組合都可以視作本發明所要保護的技術。
本發明還公開了一種應用上述弧面刀頭的理發器,其包括理發器本體,所述理發器本體上設有上述弧面刀頭。
上述實施例不應視為對本發明的限制,但任何基于本發明的精神所作的改進,都應在本發明的保護范圍之內。
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