[發(fā)明專利]陣列基板及其制造方法、液晶顯示面板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510745175.X
• 申請日: 2015-11-05
• 公開（公告）號: CN105223740B
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發(fā)明（設計）人: 唐岳軍;李亞鋒
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司;武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339;G02F1/1333
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括：第一材料層和形成在所述第一材料層上的第一導電層，其中，所述第一材料層中未被所述第一導電層遮擋的區(qū)域沿厚度方向被全部刻蝕掉，其中，黑矩陣所對應位置處的所述第一材料層未被刻蝕。

2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括第二導電層，所述第一材料層形成在所述第二導電層上。

3.如權利要求1或2所述的陣列基板，其特征在于，所述第一材料層包括多個子材料層。

4.一種液晶顯示面板，其特征在于，所述液晶顯示面板包括如權利要求1～3中任一項所述的陣列基板。

5.一種制造陣列基板的方法，其特征在于，所述方法包括：

形成第一材料層，并在所述第一材料層上形成第一導電層；

對所述第一材料層進行刻蝕，以將所述第一材料層中未被所述第一導電層遮擋的區(qū)域沿厚度方向全部刻蝕掉，其中，黑矩陣所對應位置處的所述第一材料層未被刻蝕。

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法在形成第一材料層之前，還形成第二導電層，所述第一材料層直接或間接地形成在所述第二導電層上。

7.一種制造陣列基板的方法，其特征在于，所述方法包括：

形成第一材料層，并對所述第一材料層進行刻蝕，以使得所述第一材料層形成預設圖案；

在所述預設圖案上形成第一導電層，其中，黑矩陣所對應位置處的所述第一材料層未被刻蝕，且未在黑矩陣所對應位置處的所述第一材料層上設置所述第一導電層。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法在形成第一材料層之前，還形成第二導電層，所述第一材料層直接或間接地形成在所述第二導電層上。