[發(fā)明專利]磁性共振成像裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510738150.7
• 申請(qǐng)日: 2015-11-03
• 公開（公告）號(hào): CN105596002B
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 今村幸信
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社日立制作所
• 主分類號(hào): A61B5/055
• 分類號(hào): A61B5/055
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強(qiáng);嚴(yán)星鐵

本發(fā)明提供一種磁性共振成像裝置。該磁性共振成像裝置具備：傾斜磁場產(chǎn)生時(shí)在鐵制磁極中抑制由泄露磁場而產(chǎn)生的渦電流磁場與由磁化變化而產(chǎn)生的變動(dòng)磁場的產(chǎn)生，并且，通過擴(kuò)大拍攝空間，提高被檢者的舒適性且得到良好圖像的機(jī)構(gòu)。在具備具有磁性體磁極的靜磁場磁鐵與傾斜磁場線圈的磁性共振成像裝置中，與拍攝空間對(duì)置的磁性體磁極由大致圓盤狀的鐵制磁極與大致圓環(huán)形狀的鐵制磁極與大致瓦片形狀的硅鋼片的磁極片構(gòu)成，在上述圓盤狀的鐵制磁極的表面層疊上述瓦片形狀的硅鋼片的磁極片，上述圓盤狀的鐵制磁極在圓周方向上被分割，通過絕緣物或空隙相互絕緣。尤其在圓盤形狀的外周側(cè)部分在圓周方向上被分割。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及在磁性共振成像裝置中在裝置使用時(shí)產(chǎn)生的不需要的變動(dòng)磁場降低方法。

背景技術(shù)

磁性共振成像裝置(以下，稱為MRI裝置)是利用對(duì)置于均勻的靜磁場中的被檢者照射高頻脈沖時(shí)產(chǎn)生的核磁共振現(xiàn)象，得到表示被檢者的物理性、化學(xué)性性質(zhì)的剖面圖像的裝置，尤其作為醫(yī)療用而被使用。

MRI裝置主要由在供被檢體插入的拍攝空間中產(chǎn)生均勻的靜磁場的磁鐵裝置、為了在拍攝空間中給予位置信息而脈沖狀地產(chǎn)生在空間上強(qiáng)度傾斜的磁場的傾斜磁場線圈、對(duì)被檢體照射高頻脈沖的RF線圈、接收由被檢體發(fā)出的磁性共振信號(hào)的接收線圈以及處理已接收的信號(hào)并顯示圖像的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)構(gòu)成。

作為MRI裝置性能提高的方法，有提高磁鐵裝置產(chǎn)生的靜磁場的強(qiáng)度或均勻度。為了靜磁場更強(qiáng)的程度能夠得到更清晰的圖像，另外，在靜磁場寬闊的空間中更加一致的程度在整個(gè)寬闊的范圍內(nèi)都能夠得到清晰的圖像，MRI裝置指向磁場的強(qiáng)度與均勻性的提高而繼續(xù)開發(fā)。作為其他性能提高的方法，有傾斜磁場精度的提高與傾斜磁場脈沖的高速驅(qū)動(dòng)。這些有助于畫質(zhì)的提高與拍攝時(shí)間的縮短。尤其伴隨拍攝方法的多樣化，產(chǎn)生傾斜磁場脈沖的電流波形有成為伴隨高速時(shí)間變化的脈沖波形的傾向。

由于在傾斜磁場線圈中流動(dòng)脈沖狀的電流，不只是拍攝空間中的傾斜磁場，在拍攝空間外也產(chǎn)生泄露磁場，在構(gòu)成磁鐵裝置的金屬結(jié)構(gòu)件物由于產(chǎn)生變動(dòng)的磁場而產(chǎn)生渦電流。渦電流由于在拍攝空間內(nèi)產(chǎn)生變動(dòng)磁場，所以，會(huì)影響靜磁場與傾斜磁場的分布，也會(huì)對(duì)畫質(zhì)產(chǎn)生不好的影響。尤其在近年的MRI裝置中，由于伴隨拍攝方法的高度化而要求高精度的磁場，所以，減少渦電流成為重要的課題。因此，一般來說，在具備超導(dǎo)靜磁場磁鐵的高磁場(0.5特斯拉以上)的MRI磁鐵中，采用自行遮蔽型的傾斜磁場線圈，采用降低向拍攝空間以外的泄露磁場的結(jié)構(gòu)。另一方面，在具備中低磁場(小于0.5特斯拉)的靜磁場磁鐵的MRI裝置中，為了用輸出小的驅(qū)動(dòng)電源使用傾斜磁場線圈，代替不具備屏蔽線圈，在靜磁場磁鐵的磁極面設(shè)置成為硅鋼片等的磁通量通路且渦電流產(chǎn)生小的磁性體磁極片。另外，在中低磁場的靜磁場磁鐵中使用作為磁性體的鐵制磁極的情況多。這種情況下，由傾斜磁場而產(chǎn)生的變動(dòng)磁場不只是由渦電流而產(chǎn)生的磁場，由具有磁性體的滯后作用特性的鐵制磁極的磁化而導(dǎo)致的殘留磁場也會(huì)對(duì)圖像施加不好的影響，減少這些成為重要的課題。

作為本技術(shù)領(lǐng)域的背景技術(shù)有日本特開平05-182821號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)。該公報(bào)中公開了通過在靜磁場磁極的表面使用從傾斜磁場側(cè)層疊軟性鐵氧體、層疊硅鋼片的磁極片而降低由傾斜磁場線圈產(chǎn)生的渦電流的技術(shù)。另外，在日本特開2004-65714號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)2)有相對(duì)于深層部在表層部以小形狀設(shè)置層疊于靜磁場磁極的表面上的硅鋼片的磁極片而降低向鐵制磁極的傾斜磁場的泄露磁場的技術(shù)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開平05-182821號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開2004-65714號(hào)公報(bào)

如專利文獻(xiàn)1所示，在離傾斜磁場線圈最近的靜磁場磁極表面上設(shè)置電阻值大，滯后作用特性小的軟性鐵氧體，能夠降低由渦電流與磁化變化而產(chǎn)生的變動(dòng)磁場。可是，軟性鐵氧體的飽和磁化比硅鋼片等低，由于磁通量不飽和而需要層疊的厚度。在不能充分取得將軟性鐵氧體于硅鋼片合并的厚度的情況下，傾斜磁場的泄露磁場到達(dá)靜磁場磁極表面(鐵制磁極)上，成為由渦電流與磁化變化而產(chǎn)生的變動(dòng)磁場對(duì)畫質(zhì)施加影響的原因。