[發(fā)明專利]光學成像系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510736718.1 | 申請日: | 2015-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN105589175A | 公開(公告)日: | 2016-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 唐乃元;張永明 | 申請(專利權(quán))人: | 先進光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00 |
| 代理公司: | 北京龍雙利達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11329 | 代理人: | 肖鸝;王君 |
| 地址: | 中國臺灣中部科學工業(yè)*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學 成像 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光學成像系統(tǒng),更具體地,涉及一種應(yīng)用于電子產(chǎn)品上 的小型化光學成像系統(tǒng)。
背景技術(shù)
近年來,隨著具有攝影功能的便攜式電子產(chǎn)品的興起,光學系統(tǒng)的需求 日漸提高。一般光學系統(tǒng)的感光元件不外乎是感光耦合元件(ChargeCoupled Device;CCD)或互補性氧化金屬半導體元(ComplementaryMetal-Oxide SemiconductorSensor;CMOSSensor)兩種,且隨著半導體制作工藝技術(shù)的精 進,使得感光元件的像素尺寸縮小,光學系統(tǒng)逐漸往高像素領(lǐng)域發(fā)展,因此 對成像質(zhì)量的要求也日益增加。
傳統(tǒng)搭載在便攜式裝置上的光學系統(tǒng),多采用四片或五片式透鏡結(jié)構(gòu)為 主,然而由于便攜式裝置不斷朝提升像素并且終端消費者對大光圈的需求例 如微光與夜拍功能,現(xiàn)有的光學成像系統(tǒng)已無法滿足更高級的攝影要求。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明實施例的目的在于,提供一種技術(shù),能夠有效增加光學成 像鏡頭的進光量,并進一步提高成像的質(zhì)量。
本發(fā)明實施例相關(guān)的透鏡參數(shù)的用語與其代號詳列如下,作為后續(xù)描述 的參考:
與長度或高度有關(guān)的透鏡參數(shù)
光學成像系統(tǒng)的成像高度以HOI表示;光學成像系統(tǒng)的高度以HOS表 示;光學成像系統(tǒng)的第一透鏡物側(cè)面至第六透鏡像側(cè)面間的距離以InTL表示; 光學成像系統(tǒng)的固定光闌(光圈)至成像面間的距離以InS表示;光學成像系 統(tǒng)的第一透鏡與第二透鏡間的距離以In12表示(例示);光學成像系統(tǒng)的第一 透鏡在光軸上的厚度以TP1表示(例示)。
與材料有關(guān)的透鏡參數(shù)
光學成像系統(tǒng)的第一透鏡的色散系數(shù)以NA1表示(例示);第一透鏡的折 射律以Nd1表示(例示)。
與視角有關(guān)的透鏡參數(shù)
視角以AF表示;視角的一半以HAF表示;主光線角度以MRA表示。
與出入瞳有關(guān)的透鏡參數(shù)
光學成像鏡片系統(tǒng)的入射瞳直徑以HEP表示。
與透鏡面形深度有關(guān)的參數(shù)
第六透鏡物側(cè)面在光軸上的交點至第六透鏡物側(cè)面的最大有效徑位置在 光軸的水平位移距離以InRS61表示(最大有效徑深度);第六透鏡像側(cè)面在 光軸上的交點至第六透鏡像側(cè)面的最大有效徑位置在光軸的水平位移距離以 InRS62表示(最大有效徑深度)。其他透鏡物側(cè)面或像側(cè)面的最大有效徑的深 度(沉陷量)表示方式比照前述。
與透鏡面型有關(guān)的參數(shù)
臨界點C是指特定透鏡表面上,除與光軸的交點外,與光軸相垂直的切 面相切的點。承上,例如第五透鏡物側(cè)面的臨界點C51與光軸的垂直距離為 HVT51(例示),第五透鏡像側(cè)面的臨界點C52與光軸的垂直距離為HVT52(例 示),第六透鏡物側(cè)面的臨界點C61與光軸的垂直距離為HVT61(例示),第六 透鏡像側(cè)面的臨界點C62與光軸的垂直距離為HVT62(例示)。其他透鏡物側(cè) 面或像側(cè)面上的臨界點及其與光軸的垂直距離的表示方式比照前述。
第六透鏡物側(cè)面上最接近光軸的反曲點為IF611,該點沉陷量SGI611(例 示),SGI611亦即第六透鏡物側(cè)面在光軸上的交點至第六透鏡物側(cè)面最近光軸 的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離,IF611該點與光軸間的垂直距離為 HIF611(例示)。第六透鏡像側(cè)面上最接近光軸的反曲點為IF621,該點沉陷量 SGI621(例示),SGI611亦即第六透鏡像側(cè)面在光軸上的交點至第六透鏡像側(cè) 面最近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離,IF621該點與光軸間的 垂直距離為HIF621(例示)。
第六透鏡物側(cè)面上第二接近光軸的反曲點為IF612,該點沉陷量 SGI612(例示),SGI612亦即第六透鏡物側(cè)面在光軸上的交點至第六透鏡物側(cè) 面第二接近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離,IF612該點與光軸 間的垂直距離為HIF612(例示)。第六透鏡像側(cè)面上第二接近光軸的反曲點為 IF622,該點沉陷量SGI622(例示),SGI622亦即第六透鏡像側(cè)面在光軸上的 交點至第六透鏡像側(cè)面第二接近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距 離,IF622該點與光軸間的垂直距離為HIF622(例示)。
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