[發明專利]一種絕緣子RTV涂層厚度的測量方法

有效

• 申請號: 201510733835.2
• 申請日: 2015-11-02
• 公開（公告）號: CN105352443A
• 公開（公告）日: 2016-02-24
• 發明（設計）人: 王希林;王晗;葉蔚安;賈志東
• 申請（專利權）人: 清華大學深圳研究生院
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 楊洪龍

1.一種絕緣子RTV涂層厚度的測量方法，其特征是，包括如下步驟：

S1、用設定的脈沖激光對RTV涂層進行轟擊，記錄所述RTV涂層被擊穿時激光的轟擊次數x；

S2、根據f(x)＝ax+b計算所述RTV涂層的厚度f(x)；

其中，參數a和b通過如下實驗步驟確定：

用所述設定的脈沖激光對所述RTV涂層進行轟擊，記錄擊穿的RTV涂層的厚度與對應激光轟擊的次數；

擬合曲線f(x)＝ax+b，得到所述參數a和b。

2.如權利要求1所述的絕緣子RTV涂層厚度的測量方法，其特征是，在步驟S1之前，還包括如下步驟：

確定當前測量的RTV涂層的材料是否與所述實驗步驟中的RTV涂層是否相同，如相同則執行步驟S1。

3.如權利要求1所述的絕緣子RTV涂層厚度的測量方法，其特征是，在步驟S1中，通過如下步驟確定所述RTV涂層被擊穿時激光的轟擊次數x：

S11、所述脈沖激光每轟擊一次所述RTV涂層，記錄轟擊產生的發射光譜，并記錄所述發射光譜中碳線和硅線的強度；

S22、當所述發射光譜中碳線強度出現極小值、且硅線強度上升時，則判斷所述RTV涂層被擊穿，記錄此時激光的轟擊次數x。

4.如權利要求1所述的絕緣子RTV涂層厚度的測量方法，其特征是，

在步驟S1中，調整激光器的透鏡，使所述激光器的聚焦焦點位于所述RTV涂層的上表面的下方設定位置。

5.如權利要求4所述的絕緣子RTV涂層厚度的測量方法，其特征是，聚焦焦點位于所述RTV涂層的上表面的下方、且至所述RTV涂層的上表面的距離不超過0.05mm。