[發明專利]多通道測序反應小室及多通道測序反應裝置

有效

• 申請號: 201510733672.8
• 申請日: 2015-11-03
• 公開（公告）號: CN106635772B
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發明（設計）人: 盛司潼;馮傳發
• 申請（專利權）人: 盛司潼
• 主分類號: C12M1/34
• 分類號: C12M1/34;C12M1/00
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 張海英

1.一種多通道測序反應小室，其特征在于：包括相貼合的第一玻片和第二玻片，所述第一玻片用于與第二玻片形成多條中空的反應通道，所述反應通道的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區，所述第一玻片或第二玻片上設置有與試劑緩沖區連通的試劑入口，所述第一玻片或第二玻片上還設置有與試劑緩沖區連通的試劑出口；

其中，所述試劑緩沖區呈半圓形，試劑緩沖區具有圓弧邊與直線邊，且所述緩沖區的直線邊位于靠近所述反應通道的一側。

2.根據權利要求1所述的多通道測序反應小室，其特征在于：所述第一玻片位于第二玻片上方，所述反應通道和試劑緩沖區均設置在第一玻片的下表面，所述試劑入口為設置于第一玻片或第二玻片上的通孔，所述試劑出口為設置于第一玻片或第二玻片上的通孔。

3.根據權利要求1所述的多通道測序反應小室，其特征在于：所述第一玻片位于第二玻片上方，所述反應通道和試劑緩沖區均設置在第二玻片的上表面，所述試劑入口為設置于第一玻片或第二玻片上的通孔，所述試劑出口為設置于第一玻片或第二玻片上的通孔。

4.根據權利要求1所述的多通道測序反應小室，其特征在于：所述第一玻片由蓋玻片和導液片緊密貼合而成，所述第二玻片為載玻片，所述導液片位于蓋玻片與載玻片之間，所述導液片上設置有長條形的通孔，所述反應通道由蓋玻片、長條形的通孔以及載玻片圍合而成；或者

所述第一玻片為蓋玻片，所述第二玻片由導液片和載玻片緊密貼合而成，所述導液片上設置有長條形的通孔，所述反應通道由蓋玻片、長條形的通孔以及載玻片圍合而成。

5.根據權利要求4所述的多通道測序反應小室，其特征在于：所述試劑緩沖區為設置在導液片上的通孔或為設置在蓋玻片上的通孔。

6.一種具有權利要求1所述的多通道測序反應小室的多通道測序反應裝置，其特征在于：它由多通道測序反應小室、小室上部組件以及小室下部組件構成，其中：

所述小室上部組件包括進液通道和出液通道；

所述小室下部組件包括小室上蓋和小室底座，所述小室底座用于放置所述的多通道測序反應小室，所述小室上蓋安裝在小室底座上；

所述小室上部組件用于安裝在小室下部組件上，且所述小室上部組件的進液通道與所述多通道測序反應小室的試劑入口連通，所述小室上部組件的出液通道與所述多通道測序反應小室的試劑出口連通。

7.根據權利要求6所述的多通道測序反應裝置，其特征在于：所述小室上部組件還包括底板、隔熱板、制冷片、導熱板以及溫度傳感器；其中

所述隔熱板固定在底板的下方，所述隔熱板的中部具有通孔，所述制冷片設置于隔熱板的通孔內，且所述制冷片的上表面與底板的下表面相接觸；

所述導熱板固定在制冷片的下方，導熱板的上表面與制冷片的下表面相接觸，當小室上部組件安裝在小室下部組件上時，所述導熱板的下表面與多通道測序反應小室相接觸；

所述溫度傳感器用于檢測所述的多通道測序反應小室的溫度；

所述進液通道和出液通道分別為貫穿于所述底板、隔熱板和導熱板的通孔。

8.根據權利要求7所述的多通道測序反應裝置，其特征在于：所述小室上蓋的中部具有通孔，所述小室上部組件安裝在小室下部組件上時，所述小室上部組件的隔熱板和導熱板伸入小室上蓋的通孔內，所述導熱板緊貼于多通道測序反應小室上，且所述進液通道與多通道測序反應小室的試劑入口連通，所述出液通道與多通道測序反應小室的試劑出口連通。

9.根據權利要求7所述的多通道測序反應裝置，其特征在于：所述小室上部組件還包括頂板和散熱板，所述頂板設置在底板上方，所述散熱板位于頂板與底板之間并固定于所述底板上，所述散熱板具有若干個散熱鰭片。

10.根據權利要求7所述的多通道測序反應裝置，其特征在于:所述底板和隔熱板通過螺釘連接，所述螺釘中間設置有鋼管，該鋼管即為進液通道和出液通道。