[發明專利]加工用治具在審
| 申請號: | 201510731944.0 | 申請日: | 2015-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN105252304A | 公開(公告)日: | 2016-01-20 |
| 發明(設計)人: | 王淑東 | 申請(專利權)人: | 天津匯鼎通科技有限公司 |
| 主分類號: | B23Q3/06 | 分類號: | B23Q3/06 |
| 代理公司: | 天津濱海科緯知識產權代理有限公司 12211 | 代理人: | 李莉華 |
| 地址: | 301800 天津市*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 工用 | ||
技術領域
本發明屬于工程機械加工設備領域,尤其是涉及加工用治具。
背景技術
在工程機械零件的加工過程中,有些安裝孔或者定位孔使用數控加工中心很難完成或者導致加工成本過高,或者加工完成后實際安裝時候發現加工不到位,此時將零件返回到加工廠,在安裝到數控加工中心上進行加工,會造成二次處理成本大大增加,還會延長機械的組裝工期,影響工作進度,針對以上問題就需進行人工處理,為了保證精度,在進行人工處理的過程中首先需要對零件進行裝夾和定位,因此需要提供一種易操作且穩定的裝夾裝置。
發明內容
本發明要解決的問題是在于提供易操作且穩定的加工用治具。
為解決上述技術問題,本發明采用的技術方案是:加工用治具包括工作臺、第一固定組件和第二固定組件,所述第一固定組件和所述第二固定組件對稱設于所述工作臺上方,所述第一固定組件和所述第二固定組件垂直于所述工作臺,所述第一固定組件包括擋板和動力源,所述擋板通過動力源的驅動可沿與所述工作臺的上端面平行的方向移動。
所述第一固定組件還包括固定座、導向桿和軸套,所述軸套垂于設于所述工作臺上,所述軸套垂直于固定在所述固定座上,所述導向桿和所述軸套同軸心,所述導向桿穿過所述軸套和所述固定座與所述擋板連接,所述導向桿和所述軸套為兩套且相對所述固定座的上下中心線對稱設置,所述動力源固定在所述固定座上,所述動力源的出力軸穿過所述固定座與所述擋板連接。
所述第二固定組件的結構與所述第一固定組件的結構相同。
所述動力源為氣缸。
所述工作臺上方還設有第三固定組件,所述第三固定組件平行于所述工作臺的上端面且位于對稱設置的所述第一固定組件和所述第二固定組件中間。
本發明具有的優點和積極效果是:與現有技術相比,1、本發明采用對稱式結構,對零件進行定位,而且其中一側可調,方便安裝和取下,機械結構穩定,而且調整連接動力源,容易操作,精度高,而且節省人力,提升工作效率;2、擋板兩下兩端設置的對稱導向桿能夠保證擋板受力均勻,從而保證裝夾穩定;3、第二固定組件也設置成可調整結構,更方便結構的調整有利于工件的裝夾;4、氣缸操作和控制簡單,而且規格多樣,容易采購而且成本低;5、第三固定組件增加在機械零件上方的定位,實現了工件上、下、左、右四個方向的固定,保證工件裝夾的穩定性,進而保證工件二次加工的精度。
附圖說明
圖1是本發明加工用治具的軸測圖。
圖2是本發明動力源的軸測圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明的具體實施例做詳細說明。
如圖1所示,本發明為加工用治具,包括工作臺1、第一固定組件2、第二固定組件3和第三固定組件4。
如圖1和圖2所示,第一固定組件2和第二固定組件3對稱設于工作臺1上方,第一固定組件2和第二固定組件3垂直于工作臺1,第一固定組件2包括擋板24和動力源25,擋板24通過動力源25的驅動可沿與工作臺1的上端面平行的方向移動。
進一步,第一固定組件2還包括固定座22、導向桿21和軸套23,軸套23垂于設于工作臺1上,軸套23垂直于固定在固定座22上,導向桿21和軸套23同軸心,導向桿21穿過軸套23和固定座22與擋板24連接,導向桿21和軸套23為兩套且相對固定座22的上下中心線對稱設置,動力源25固定在固定座22上,動力源25的出力軸251穿過固定座22與擋板24連接,第二固定組件3的結構與第一固定組件2的結構相同,再進一步動力源25為氣缸。
進一步,工作臺1上方還設有第三固定組件4,第三固定組件4平行于工作臺1的上端面且位于對稱設置的第一固定組件2和第二固定組件3中間。
在實際的機械零件裝夾定位過程中,將機械零件放置在工作臺1上,且放置在第一固定組件2和第二固定組件3之間,然后啟動氣缸25,氣缸25帶動擋板24向機械零件運動,與此同時第三固定組件3一起運動,完成最機械零件下方和左右放的定位,然后第三固定組件4運動完成零件上方的定位,四個方向定位完成后,操作者可進行零件的二次加工和處理,整個結構簡單,穩定,而且可實現四個方向的裝夾定位,精度高,使用氣缸驅動,容易操作,而且方便調節,有利于提升工作效率。
以上對本發明的一個實施例進行了詳細說明,但所述內容僅為本發明的較佳實施例,不能被認為用于限定本發明的實施范圍。凡依本發明申請范圍所作的均等變化與改進等,均應仍歸屬于本發明的專利涵蓋范圍之內。
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