[發明專利]一種指紋識別模組及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 201510729204.3
• 申請日: 2015-10-30
• 公開（公告）號: CN105389552A
• 公開（公告）日: 2016-03-09
• 發明（設計）人: 李穎祎
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G02F1/1343;G02F1/1335
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種指紋識別模組，其特征在于，所述指紋識別模組包括：相對設置的第一電極層、第二電極層以及位于二者之間的透明絕緣層；

所述第一電極層，包括多個間隔開來的第一電極線；

所述第二電極層，包括多個間隔開來的第二電極線；

所述第二電極線與所述第一電極線交叉設置；

其中，所述第一電極層由透明導電材料構成；所述第二電極層為線柵偏振片。

2.根據權利要求1所述的指紋識別模組，其特征在于，所述第二電極層的線柵周期長度取值范圍為70nm至200nm；所述線柵的線寬取值范圍為50nm至150nm。

3.根據權利要求2所述的指紋識別模組，其特征在于，所述第二電極線包括：第二測試電極線和位于所述第二測試電極線之間的第二非測試電極線；

所述第二測試電極線，與提供測試電信號的測試信號線相連；

其中，相鄰的兩根所述第二測試電極線之間間隔相同數量的所述第二非測試電極線，所述相同數量為50根至300根。

4.根據權利要求2所述的指紋識別模組，其特征在于，所述線寬占所述線柵周期長度的1/3至2/3。

5.根據權利要求1所述的指紋識別模組，其特征在于，所述第二電極層的厚度取值范圍為100nm至400nm。

6.根據權利要求1所述的指紋識別模組，其特征在于，所述第二電極線與所述第一電極線垂直交叉。

7.根據權利要求1所述的指紋識別模組，其特征在于，所述指紋識別模組中，所述第一電極層設置在靠近被測者的指紋一側。

8.一種指紋識別模組的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：形成相對設置的第一電極層、第二電極層以及位于二者之間的透明絕緣層；

所述第一電極層，包括多個間隔開來的第一電極線；

所述第二電極層，包括多個間隔開來的第二電極線；

所述第二電極線與所述第一電極線交叉設置；

其中，所述第一電極層由透明導電材料構成；所述第二電極層為線柵偏振片。

9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，形成所述第二電極層的步驟具體包括：

在基底上形成金屬層；

將多個間隔開來的光刻膠條轉印到所述金屬層表面，所述光刻膠條覆蓋的部分對應于待形成的第二電極線；

去除所述金屬層中未被所述光刻膠條覆蓋的部分，以形成多個間隔開來的第二電極線；

去除覆蓋所述第二電極線的所述光刻膠條。

10.一種顯示裝置，所述顯示裝置包括：顯示模組；其特征在于，所述顯示裝置還包括：如權利要求1至7任一項所述的指紋識別模組；所述指紋識別模組位于所述顯示模組的出光側。