[發明專利]用于板狀工件的翹曲校正設備和翹曲校正方法

有效

• 申請號: 201510728252.0
• 申請日: 2015-10-30
• 公開（公告）號: CN105562468B
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發明（設計）人: 上竹宏佳;林幸弘
• 申請（專利權）人: 日本發條株式會社
• 主分類號: B21D1/00
• 分類號: B21D1/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 朱立鳴

1.一種翹曲校正設備(80)，所述翹曲校正設備校正板狀工件的翹曲，所述板狀工件包括第一表面(61a)和第二表面(61b)，所述翹曲校正設備(80)的特征在于包括：

彈性墊(82)，所述彈性墊包括平坦上表面(82a)；以及

第一片材供應單元(90)，所述第一片材供應單元被配置成在所述彈性墊(82)的所述上表面(82a)上供應第一清潔片材(83)；

工件保持機構(100)，所述工件保持機構被配置成在所述第一清潔片材(83)上供應所述板狀工件；

第二片材供應單元(95)，所述第二片材供應單元被配置成在所述第一清潔片材(83)上方供應第二清潔片材(84)；

第一升降機單元(98)，所述第一升降機單元被配置成相對于所述第一清潔片材(83)上下移動所述第二清潔片材(84)；

壓力輥(85)，所述壓力輥可移動并且安置于所述第二清潔片材(84)上方；

第二升降機單元(110)，所述第二升降機單元被配置成使所述壓力輥(85)朝向所述彈性墊(82)壓制；以及

輥移動機構(111)，輥移動機構被配置成在所述壓力輥(85)下降的狀態下沿著所述彈性墊(82)的所述上表面(82a)移動所述壓力輥(85)。

2.根據權利要求1所述的翹曲校正設備(80)，其特征在于：

所述彈性墊(82)由具有彈性的樹脂泡沫形成；以及

所述壓力輥(85)由比所述彈性墊(82)更硬的彈性材料制成。

3.根據權利要求1所述的翹曲校正設備(80)，其特征在于：

所述第一片材供應單元(90)包括：第一供應筒管(91)，所述第一供應筒管被配置成在所述彈性墊(82)上遞送所述第一清潔片材(83)的未用的部分；以及，第一卷取筒管(92)，所述第一卷取筒管被配置成卷取在所述彈性墊(82)上的所述第一清潔片材(83)的用過的部分；以及

所述第二片材供應單元(95)包括：第二供應筒管(96)，所述第二供應筒管被配置成在所述第一清潔片材(83)上遞送所述第二清潔片材(84)的未用的部分；以及，第二卷取筒管(97)，所述第二卷取筒管被配置成卷取所述第二清潔片材(84)的用過的部分。

4.根據權利要求2所述的翹曲校正設備(80)，其特征在于：

所述第一片材供應單元(90)包括：第一供應筒管(91)，所述第一供應筒管被配置成在所述彈性墊(82)上遞送所述第一清潔片材(83)的未用的部分；以及，第一卷取筒管(92)，所述第一卷取筒管被配置成卷取在所述彈性墊(82)上的所述第一清潔片材(83)的用過的部分；以及

所述第二片材供應單元(95)包括：第二供應筒管(96)，所述第二供應筒管被配置成在所述第一清潔片材(83)上遞送所述第二清潔片材(84)的未用的部分；以及，第二卷取筒管(97)，所述第二卷取筒管被配置成卷取所述第二清潔片材(84)的用過的部分。

5.根據權利要求1所述的翹曲校正設備(80)，其特征在于，還包括：離子發生器(86)，所述離子發生器用于防止靜電積聚在所述第一清潔片材(83)和所述第二清潔片材(84)上。

6.根據權利要求2所述的翹曲校正設備(80)，其特征在于，還包括：離子發生器(86)，所述離子發生器用于防止靜電積聚在所述第一清潔片材(83)和所述第二清潔片材(84)上。

7.根據權利要求3所述的翹曲校正設備(80)，其特征在于，還包括：離子發生器(86)，所述離子發生器用于防止靜電積聚在所述第一清潔片材(83)和所述第二清潔片材(84)上。

8.根據權利要求4所述的翹曲校正設備(80)，其特征在于，還包括：離子發生器(86)，所述離子發生器用于防止靜電積聚在所述第一清潔片材(83)和所述第二清潔片材(84)上。

9.根據權利要求1所述的翹曲校正設備(80)，其特征在于：所述板狀工件由框架單元(61)形成，所述框架單元(61)包括框架部分(62)和形成于所述框架部分(62)內的多個撓曲元件(40′)，并且所述工件保持機構(100)將所述框架單元(61)放置于所述第一清潔片材(83)上，使得在所述撓曲元件(40′)中每一個中的縱向方向與所述彈性墊(82)的所述上表面(82a)中的縱向方向一致。