[發(fā)明專利]基板吸取裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510707890.4 | 申請日: | 2015-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN105293068A | 公開(公告)日: | 2016-02-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡新斌 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | B65G47/91 | 分類號: | B65G47/91;B65G49/06 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 吸取 裝置 | ||
1.一種基板吸取裝置,其特征在于,包括外殼(2)、設(shè)于所述外殼(2)中可上下移動的取片單元(1)、及設(shè)于所述外殼(2)內(nèi)部的緩沖單元(3);
所述緩沖單元(3)包括固定于所述外殼(2)內(nèi)部上方的第一磁體(31)、及固定于所述取片單元(1)外部下方的第二磁體(32);所述第一磁體(31)與第二磁體(32)的相對端面的磁極相同;
取片時,所述取片單元(1)隨所述外殼(2)向下移動,當所述取片單元(1)與基板(7)相接觸時,所述取片單元(1)受到基板(7)反方向的作用力從而相對于所述外殼(2)向上運動,所述第二磁體(32)隨所述取片單元(1)在所述外殼(2)中向上運動,之后通過所述第一磁體(31)與第二磁體(32)之間的相斥磁力使得所述第二磁體(32)與取片單元(1)回復(fù)原位,從而對取片單元(1)接觸基板(7)的瞬間產(chǎn)生的沖擊力進行緩沖。
2.如權(quán)利要求1所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述取片單元(1)包括伸縮臂(11)、及設(shè)于所述伸縮臂(11)下端的吸盤(12)。
3.如權(quán)利要求2所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述外殼(2)包括側(cè)壁(21)、及設(shè)于側(cè)壁(21)頂部的上蓋(22),所述上蓋(22)上設(shè)有第一通孔(23)。
4.如權(quán)利要求3所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述外殼(2)的側(cè)壁(21)與上蓋(22)為一體式或可拆卸式。
5.如權(quán)利要求4所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述第一磁體(31)與第二磁體(32)均呈環(huán)形,所述第二磁體(32)固定于所述取片單元(1)的伸縮臂(11)上。
6.如權(quán)利要求5所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述第一磁體(31)具有第二通孔(33),所述第一通孔(23)與第二通孔(33)的直徑大于所述取片單元(1)的伸縮臂(11)的直徑,所述伸縮臂(11)的上端穿過所述第一通孔(23)與第二通孔(33)延伸至所述外殼(2)外部,所述伸縮臂(11)的下端伸出于所述外殼(2)外部。
7.如權(quán)利要求1所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述第二磁體(32)的尺寸小于所述外殼(2)內(nèi)部的尺寸,所述第二磁體(32)位于所述外殼(2)內(nèi)部。
8.如權(quán)利要求2所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述取片單元(1)的伸縮臂(11)上于所述第二磁體(32)的下方固定有下蓋(24)。
9.如權(quán)利要求8所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述下蓋(24)位于所述外殼(2)的內(nèi)部。
10.如權(quán)利要求9所述的基板吸取裝置,其特征在于,所述下蓋(24)與所述外殼(2)的內(nèi)壁相配合,使得所述取片單元(1)可在所述外殼(2)的內(nèi)部上下移動。
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