[發(fā)明專利]一種激光測量效應(yīng)靶變形的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510697977.8 | 申請日: | 2015-10-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105157597A | 公開(公告)日: | 2015-12-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔣海燕;董樹楠;蘇健軍;李芝絨;張玉磊;翟紅波;袁建飛 | 申請(專利權(quán))人: | 西安近代化學(xué)研究所 |
| 主分類號(hào): | G01B11/16 | 分類號(hào): | G01B11/16;G01B11/22;G01F17/00 |
| 代理公司: | 中國兵器工業(yè)集團(tuán)公司專利中心 11011 | 代理人: | 梁勇 |
| 地址: | 710065 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 激光 測量 效應(yīng) 變形 方法 | ||
1.一種激光測量效應(yīng)靶變形的方法,所述方法中所用測量裝置包括:測量系統(tǒng)(3)、數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)(4)、數(shù)據(jù)自動(dòng)處理程序(5),所述測量系統(tǒng)(3)由激光測距裝置(1)和角度測量裝置(2)組成;
所述的一種激光測量效應(yīng)靶變形的方法,其特征在于,包括如下步驟:
(a)標(biāo)定激光光源與效應(yīng)靶的相對(duì)位置
將效應(yīng)靶水平放置,使效應(yīng)靶平面處于水平狀態(tài),標(biāo)出效應(yīng)靶凹坑的最大深度點(diǎn),即凹坑的幾何中心,記為o;調(diào)整激光測距裝置的位置,使激光測距裝置位于效應(yīng)靶變形凹坑的正上方垂直于凹坑最大深度點(diǎn)o,即激光光源發(fā)射的光線重直于效應(yīng)靶平面且過最大深度點(diǎn)o,然后將其固定;
所述激光測距裝置位置固定后,可以在垂直平面0~360°范圍內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)任意角度。
(b)數(shù)據(jù)采集
以凹坑的最大深度點(diǎn)o作為起始點(diǎn),凹坑上緣為終點(diǎn),轉(zhuǎn)動(dòng)激光測距探頭,沿凹坑母線,間隔一定角度獲取激光光源到凹坑表面的直線距離和光源相對(duì)于起始點(diǎn)o轉(zhuǎn)過的角度,并按先后順序保存各測點(diǎn)測量數(shù)據(jù);
從起始點(diǎn)o到凹坑上緣共獲取了n+1組數(shù)據(jù),將各組數(shù)據(jù)按先后順序記為0,1,2,……,n,各測點(diǎn)對(duì)應(yīng)距離和角度分別記為L0,L1,L2,……,Ln和α0,α1,α2,……,αn;
則測量激光光源到最大深度點(diǎn)o的直線距離為L0,此時(shí)對(duì)應(yīng)的角度α0=0;在測點(diǎn)1位置時(shí),激光光源到凹坑表面的直線距離記為L1,相對(duì)起始點(diǎn)o轉(zhuǎn)過的角度記為α1;依次類推,當(dāng)激光轉(zhuǎn)動(dòng)到凹坑上緣時(shí),激光光源到凹坑表面的直線距離為Ln,相對(duì)于起始點(diǎn)o轉(zhuǎn)過的角度為αn,如下表所示:
在起始點(diǎn)o,激光光源發(fā)射的光線從凹坑正上方重直打在凹坑最大深度點(diǎn)o上,為了保證后續(xù)計(jì)算結(jié)果的精度,n≥5。
(c)數(shù)據(jù)處理
依次讀入組數(shù)據(jù),建立笛卡爾坐標(biāo),以激光光源位置作為坐標(biāo)原點(diǎn),進(jìn)行換算,得到各測點(diǎn)在笛卡爾坐標(biāo)下的坐標(biāo)值;
根據(jù)測點(diǎn)0和測點(diǎn)n的坐標(biāo)可以計(jì)算獲得凹坑最大變形深度H;基于n+1個(gè)測點(diǎn)坐標(biāo)值,采用最小二乘法對(duì)測點(diǎn)數(shù)據(jù)進(jìn)行多項(xiàng)式擬合,獲得凹坑母線方程;
所述擬合的母線方程合成凹坑變形的三維曲面圖形并顯示;同時(shí),數(shù)據(jù)自動(dòng)處理程序(5)根據(jù)凹坑變形的三維曲面積分得到凹坑體積V。
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