[發明專利]一種單面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法

有效

• 申請號: 201510697114.0
• 申請日: 2015-10-19
• 公開（公告）號: CN105204704B
• 公開（公告）日: 2018-08-10
• 發明（設計）人: 董安光;王戀貴;譚華;秦遵紅
• 申請（專利權）人: 洛陽康耀電子有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種單面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法，所述單面觸摸屏消影導電玻璃是由玻璃基板(1)、錫面(2)、空氣面(3)、干涉層一(4)、透明鈍化層(5)、干涉層二(6)構成；其特征在于：玻璃基板(1)的兩個表面分別為錫面(2)和空氣面(3)，在玻璃基板(1)的錫面(2)上設置干涉層一(4)，干涉層一(4)與干涉層二(6)之間設置透明鈍化層(5)；

所述透明鈍化層(5)采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；

所述干涉層一(4)與干涉層二(6)均采用五氧化二鈮；

所述一種單面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法，具體步驟如下：

第一步，對玻璃基板(1)進行處理，

A、對玻璃基板(1)進行切割，先沿X方向切割，再沿Y方向切割，然后再掰片處理；

B、對切割后的玻璃基板(1)進行磨邊和倒角，先沿X方向磨邊，再倒角，旋轉90°后，再沿Y方向磨邊及倒角；

C、刷洗吹干；

D、對磨邊和倒角后的玻璃基板(1)進行拋光；

E、再刷洗吹干；

第二步，對玻璃基板(1)濺射干涉層一(4)和透明鈍化層(5)；

A、對拋光刷洗吹干后的玻璃基板(1)進行加熱；采用的加熱溫度為150-280攝氏度；

B、利用磁控濺射真空鍍膜設備對加熱后的玻璃基板(1)的錫面(2)上濺射干涉層一(4)，干涉層一(4)為五氧化二鈮，干涉層一(4)上方濺射透明鈍化層(5)，透明鈍化層(5)為透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；第三步，在玻璃基板(1)濺射的透明鈍化層(5)上，進行干涉層二(6)濺射；

A、對濺射干涉層一(4)和透明鈍化層(5)后的玻璃基板(1)進行加熱；加熱溫度采用280-380攝氏度；

B、利用磁控濺射真空鍍膜設備，對加熱后的玻璃基板(1)，在玻璃基板(1)的干涉層一(4)和透明鈍化層(5)上，進行干涉層二(6)濺射，干涉層二(6)為五氧化二鈮；

C、對濺射干涉層二(6)后的玻璃基板(1)，經緩沖室做退火處理：先降溫至200攝氏度，再加溫至300攝氏度穩定，完成對玻璃基板(1)的鍍膜。