[發明專利]用于等離子反應室元件表面處理的遮蔽裝置

在審

• 申請號: 201510660509.3
• 申請日: 2015-10-14
• 公開（公告）號: CN105513931A
• 公開（公告）日: 2016-04-20
• 發明（設計）人: 姜文興
• 申請（專利權）人: 科閎電子股份有限公司
• 主分類號: H01J37/16
• 分類號: H01J37/16;H01J37/02;H05H7/00;H01L21/67
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

技術領域

本發明涉及一種遮蔽裝置，特別是涉及一種用于等離子反應室元件表面處 理的遮蔽裝置。

背景技術

現今，等離子反應技術已被廣泛的應用在例如半導體制造工業、顯示面板 制造工業、太陽能電池制造工業等各種產業中。等離子反應裝置系由多個等離 子反應室元件(材料包含鋁合金或不銹鋼)所組成，并且通過許多方法生成及/ 或控制等離子密度、形狀以及反應腔體中的電氣特征，使等離子與反應氣體反 應以沉積期望的材料層于基板上。

一般而言，等離子反應裝置在運轉一段時間后必須進行定期的維修與保 養，并且將等離子反應室元件的表面進行處理。表面處理的方法包含使用化學 蝕刻、噴砂、拋磨或車銑等方式將在等離子反應室元件表面上的鍍層進行徹底 的退除。然而，為避免在表面處理時傷害等離子反應室元件的局部部件，必須 耗費工時將部分特殊購件拆除或者是將非處理區域進行適當的遮蔽。

舉例來說，當所述等離子反應室元件包含外露的銅管時，必須將所述銅管 拆除，以避免在使用化學性的方式進行表面處理時銅管與化學液體產生反應。 又例如，當所述等離子反應室元件為一靜電吸盤(chuck)時，亦必須先將所述 靜電吸盤上的陶瓷盤拆除。然而，此拆除的步驟需耗費一定的工時。

再者，等離子反應室元件通常包含用于與另一等離子反應室元件對接或組 裝的組合基準面、氣密圈結合面…等，為避免減損組合基準面的尺寸或者是破 壞結合面的表面，必須在表面處理前采用遮護膠帶或涂料的方式遮蔽等離子反 應室元件的所述非處理區域。然而，若采用遮護膠帶的方式進行遮蔽，在表面 處理完的后勢必會產生大量的廢棄物，造成環境的污染。以及，若采用涂料的 方式進行遮蔽，必須耗費大量工時在所述非處理區域重復地涂覆多層的涂料， 才得以形成具有足夠保護力的遮蔽膜。此外，當去除所述遮蔽膜后同樣會產生 大量的廢棄物，造成環境的污染。

有鑒于此，有必要提供一種用于等離子反應室元件表面處理的遮蔽裝置， 其可有效地保護等離子反應室元件上的部分特殊部件(例如銅管或陶瓷盤)，使 得在表面處理前不需將所述特殊部件拆除，以及所述遮蔽裝置能快速地將所述 與所述等離子反應室元件結合，并且有效地遮蔽所述等離子反應室元件的非處 理區域。

發明內容

為解決上述現有技術的問題，本發明的目的在于提供一種用于等離子反應 室元件表面處理的遮蔽裝置，所述遮蔽裝置包含多個遮蔽單元，用于分別遮蔽 所述等離子反應室元件的多個非處理區域，并且還包含至少一固定機構，用于 將所述遮蔽裝置與所述等離子反應室元件結合，進而使所述遮蔽裝置能快速且 有效地遮蔽所述等離子反應室元件的非處理區域。

為達上述的目的，本發明提供一種用于等離子反應室元件表面處理的遮蔽 裝置，所述等離子反應室元件的表面具有一目標處理區域和至少一非處理區 域，所述遮蔽裝置設置在所述等離子反應室元件的周圍，用于遮蔽所述等離子 反應室元件的所述至少一非處理區域并且暴露所述目標處理區域。

于本發明其中之一優選實施例當中，所述遮蔽裝置至少包含：一第一遮蔽 單元，設置在所述等離子反應室元件的一第一面，用于遮蔽一位于所述第一面 的第一非處理區域；一第二遮蔽單元，設置在所述等離子反應室元件的相對于 所述第一面的一第二面，用于遮蔽一位于所述第二面的第二非處理區域；以及 一第一固定機構，用于將所述第一遮蔽單元和所述第二遮蔽單元分別與所述等 離子反應室元件結合。

于本發明其中之一優選實施例當中，所述第一固定機構包含多個所述螺 絲，以及所述等離子反應室元件、所述第一遮蔽單元和所述第二遮蔽單元分別 包含至少一相對應的鎖固孔，通過多個所述螺絲將所述第一遮蔽單元和所述第 二遮蔽單元分別鎖固于所述等離子反應室元件的相對應的所述第一面或所述 第二面。

于本發明其中之一優選實施例當中，所述遮蔽裝置進一步包含一第三遮蔽 單元以及一第二固定機構，所述第三遮蔽單元設置在所述第一遮蔽單元和所述 第二遮蔽單元之間，用于遮蔽一位于所述第一面和所述第二面之間的第三非處 理區域，所述第二固定機構用于使所述遮蔽單元互相結合。

于本發明其中之一優選實施例當中，所述第三遮蔽單元為從一垂直于所述 第一遮蔽單元或所述第二遮蔽單元的方向延伸形成。