[發(fā)明專利]自尋式正電子液對(duì)零件內(nèi)腔及表面缺陷定位的裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510645518.5
• 申請(qǐng)日: 2015-10-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105241909B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 肖輝;趙敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京航空航天大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N23/2251
• 分類號(hào): G01N23/2251
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32249
• 代理人: 吳旭

1.一種自尋式正電子液對(duì)零件內(nèi)腔及表面缺陷定位的裝置，其特征在于：包括剛性密閉容器、真空泵、正電子灌注系統(tǒng)以及γ光子探測(cè)及成像設(shè)備；所述剛性密閉容器內(nèi)部設(shè)有可升降支撐架，待測(cè)零件置于所述可升降支撐架上；所述正電子灌注系統(tǒng)包括放射性核素活度計(jì)、管路以及正電子液儲(chǔ)液器，所述正電子液儲(chǔ)液器通過(guò)管路連接剛性密閉容器上的正電子液注入口，所述真空泵連接剛性密閉容器上的抽真空口，放射性核素活度計(jì)設(shè)置在所述管路上；所述γ光子探測(cè)及成像設(shè)備用于對(duì)剛性密閉容器的零件進(jìn)行γ光子探測(cè)及成像處理。

2.基于權(quán)利要求1所述自尋式正電子液對(duì)零件內(nèi)腔及表面缺陷定位裝置的缺陷定位方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一，將具有活度的放射性核素與載體溶劑混合，制備得到正電子液；

步驟二，將待測(cè)零件置于剛性密閉容器內(nèi)的可升降支撐架上，并注入所述正電子液，保證零件整個(gè)浸沒(méi)在正電子液中；

步驟三，對(duì)所述剛性密閉容器進(jìn)行抽真空處理，并在正電子液凍結(jié)初期收縮支撐架，使零件與可升降支撐架分離，使零件在沒(méi)有支撐的情況下完全凍結(jié)于正電子液中；

步驟四，將剛性密閉容器置于γ光子探測(cè)及成像設(shè)備中，對(duì)零件進(jìn)行靜態(tài)2D成像，然后重構(gòu)零件內(nèi)腔及表面空間幾何形狀的3D圖像，最后通過(guò)所述3D圖像確定缺陷的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的自尋式正電子液對(duì)零件內(nèi)腔及表面缺陷定位裝置的缺陷定位方法，其特征在于：選擇所述放射性核素的半衰期為缺陷定位測(cè)試時(shí)間的5倍以上。