[發明專利]具有羥基磷灰石內核的厭氧氨氧化顆粒污泥的培養方法

有效

• 申請號: 201510640931.2
• 申請日: 2015-09-30
• 公開（公告）號: CN105152327B
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 金仁村;張正哲;徐佳佳;鄧睿;季政權;戶海燕
• 申請（專利權）人: 杭州師范大學
• 主分類號: C02F3/28
• 分類號: C02F3/28
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司33201
• 代理人: 黃美娟,王兵

1.一種具有羥基磷灰石內核的厭氧氨氧化顆粒污泥的培養方法，其特征在于，所述方法為：

(1)在反應器內接種厭氧氨氧化污泥，置于30～35℃恒溫室中，泵入初始進水，在厭氧、避光、進水pH為7.4～7.8條件下運行，初始水力停留時間為3～6h；

所述初始進水的成分組成為：NaH₂PO₄ 10mg L^-1、CaCl₂·2H₂O 5.6mg L^-1、MgSO₄·7H₂O 5.6mg L^-1、NaHCO₃ 840mg L^-1、微量元素I儲備液1.25ml L^-1、微量元素II儲備液1.25ml L^-1、NH₄⁺-N 70mg L^-1、NO₂^--N 70mg L^-1；

其中，所述微量元素I儲備液的成分組成為：EDTA 5.00g·L^-1、FeSO₄ 9.14g·L^-1；所述微量元素II儲備液的成分組成為：EDTA 15.0g·L^-1、ZnSO₄·7H₂O 0.430g·L^-1、CoCl₂·6H₂O 0.240g·L^-1、MnCl₂·4H₂O 0.990g·L^-1、CuSO₄·5H₂O 0.250g·L^-1、NaMoO₄·2H₂O 0.220g·L^-1、NiCl₂·6H₂O 0.210g·L^-1、H₃BO₄ 0.014g·L^-1；

(2)逐步增加進水中NH₄⁺-N和NO₂^--N濃度，直到進水中NH₄⁺-N和NO₂^--N濃度均達到210～280mg L^-1，然后逐步縮短水力停留時間，直至水力停留時間為2～3h；

所述逐步增加進水中NH₄⁺-N和NO₂^--N濃度是指：每當出水NO₂^--N濃度低于10mg L^-1時，以70mg L^-1的步幅同步增加進水中NH₄⁺-N和NO₂^--N濃度；

所述的逐步縮短水力停留時間是指：每當出水NO₂^--N濃度低于10mg L^-1時，縮短水力停留時間為原水力停留時間的70％～90％；

(3)在水力停留時間為2～3h條件下運行50～70d，然后逐步增加進水中鈣離子濃度，直到進水中鈣離子濃度達到50～80mg L^-1，接著逐步增加進水中磷酸鹽濃度，直到進水中磷酸鹽濃度達到100～300mgP L^-1，之后逐步縮短水力停留時間，直至水力停留時間為0.5～1h，再經過40～60天的運行，則所述的具有羥基磷灰石內核的厭氧氨氧化顆粒污泥培養成功；

所述逐步增加進水中的鈣離子濃度是指：每當出水NO₂^--N濃度低于10mg L^-1時，以10mgCa L^-1的步幅增加進水中CaCl₂·2H₂O的濃度；

所述逐步增加進水中的磷酸鹽濃度是指：每當出水NO₂^--N濃度低于10mg L^-1時，以5～100mgP L^-1的步幅增加進水NaH₂PO₄的濃度；

所述的逐步縮短水力停留時間是指：每當出水NO₂^--N濃度低于10mg L^-1時，縮短水力停留時間為原水力停留時間的70％～90％。